特許

J-GLOBAL ID：200903025925751497

原料加熱装置

発明者： 地崎 達
出願人/特許権者： 株式会社チサキ
代理人 (1件)： 藤岡 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-122698
公開番号（公開出願番号）：特開平11-304365
出願日： 1998年04月17日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：

【要約】【課題】 原料を均一に加熱することのできる原料加熱装置を提供することを目的とする。【解決手段】 上記炉床は、非回転の固定炉床14と鉛直軸線16Cまわりに回転する回転炉床15とから成り、固定炉床14は周壁13に対して不動に設けられ、回転炉床15は固定炉床14の下方にあって上記周壁13の下縁に対して近接して相対回転可能となっており、固定炉床14は上部落下孔14A、回転炉床15は下部落下孔15Aをそれぞれ中央部に互に同心をなして形成され、上部落下孔14Aは下部落下孔15Aよりも小径となっており、固定炉床14は、上下方向にて回転炉床15に対応する領域に、貫通せる連絡孔20が形成されている。

請求項（抜粋）：

炉蓋の周囲部に原料供給管が設けられており、該炉蓋、周壁そして炉床により加熱空間を形成し、原料供給管から供給され炉床上に堆積された原料を上記加熱空間へ流入せる加熱ガスにより加熱し、炉床の中央部に形成された落下孔から上記炉床上の堆積原料を逐次落下せしめる原料加熱装置において、上記炉床は、非回転の固定炉床と鉛直軸線まわりに回転する回転炉床とから成り、固定炉床は周壁に対して不動に設けられ、回転炉床は固定炉床の下方にあって上記周壁の下縁に対して近接して相対回転可能となっており、固定炉床は上部落下孔、回転炉床は下部落下孔をそれぞれほぼ中央部に形成され、上部落下孔は下部落下孔よりも小径となっており、固定炉床は、上下方向にて回転炉床に対応する領域に、貫通せる連絡孔が形成されていることを特徴とする原料加熱装置。

IPC (2件)：

F27B 9/18 ,  F27B 1/20

FI (2件)：

F27B 9/18 R ,  F27B 1/20

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 原料の加熱炉装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-340335   出願人：株式会社チサキ
• 特開昭58-062487
  
• 特開昭58-062487