特許

J-GLOBAL ID：200903025933689628

多孔質層を有する積層体及びその製造方法、並びに多孔質膜及びその製造方法

発明者： 大和 洋
出願人/特許権者： ダイセル化学工業株式会社
代理人 (1件)： 岡田 正広
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-246204
公開番号（公開出願番号）：特開2009-073124
出願日： 2007年09月21日
公開日（公表日）： 2009年04月09日
要約：

【課題】空孔特性に優れ、柔軟性を有し、しかも取扱性及び成形加工性に優れた多孔質層を有する積層体、及び単層からなる多孔質膜、及びそれらの製造方法を提供する。【解決手段】基材と、前記基材の少なくとも片面上の高分子で構成されている多孔質層とを含む積層体であって、前記多孔質層における微小孔の平均孔径が0.01〜10μmであり、空孔率が30〜80%であり、前記微小孔は、連通性の低い独立微小孔である、積層体。高分子で構成されている多孔質膜であって、前記多孔質膜における微小孔の平均孔径が0.01〜10μmであり、空孔率が30〜80%であり、前記多孔質膜の厚みが5〜200μmであり、且つガーレー値で表して30秒/100cc以上の透気度を有する、多孔質膜。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基材と、前記基材の少なくとも片面上の高分子で構成されている多孔質層とを含む積層体であって、 前記多孔質層における微小孔の平均孔径が0.01〜10μmであり、空孔率が30〜80%であり、前記微小孔は、連通性の低い独立微小孔である、積層体。

IPC (1件)：

B32B 5/18

FI (1件)：

B32B5/18

Fターム (48件)：

4F100AA33E ,  4F100AB01A ,  4F100AB01D ,  4F100AB04A ,  4F100AB16E ,  4F100AB18A ,  4F100AB21A ,  4F100AB24E ,  4F100AB25A ,  4F100AB33A ,  4F100AD11E ,  4F100AK01A ,  4F100AK01B ,  4F100AK01C ,  4F100AK25B ,  4F100AK41A ,  4F100AK41B ,  4F100AK45A ,  4F100AK45B ,  4F100AK47A ,  4F100AK47B ,  4F100AK49A ,  4F100AK49B ,  4F100AK50A ,  4F100AK50B ,  4F100AK54A ,  4F100AK54B ,  4F100AK55A ,  4F100AK55B ,  4F100AK57A ,  4F100AK57B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100DC11A ,  4F100DG12A ,  4F100DG15A ,  4F100DJ00B ,  4F100DJ02B ,  4F100EH71D ,  4F100GB41 ,  4F100HB31E ,  4F100JB01C ,  4F100JG01E ,  4F100YY00B

引用特許：

出願人引用 (3件)

• インク受像シート及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-323362   出願人：ダイセル化学工業株式会社
• インク受像シート及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-333067   出願人：ダイセル化学工業株式会社
• 国際公開WO98/25997号パンフレット
  

審査官引用 (2件)

• 多孔質膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-295151   出願人：日東電工株式会社
• 表面多孔体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-165763   出願人：財団法人川村理化学研究所