特許
J-GLOBAL ID：200903025946253250

平版用アルミニウム基板とその製造方法、及び平版

発明者：
山口 恵太郎

山口 恵太郎 について


出願人/特許権者：
三菱アルミニウム株式会社

三菱アルミニウム株式会社 について


代理人 (1件)： 志賀 正武 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-289823
公開番号（公開出願番号）：特開2003-096597
出願日： 2001年09月21日
公開日（公表日）： 2003年04月03日
要約：
【要約】【課題】 陽極酸化皮膜12の上に形成された感光膜21の剥離を防止し、かつ陽極酸化皮膜12の耐摩耗性を向上させることによって耐刷性を改善した平版用アルミニウム基板10、及びこれを用いた平版20を得る。【解決手段】 平版用アルミニウム基板10は、アルミニウム又はアルミニウム基合金からなる基材11の表面に陽極酸化皮膜12が形成され、この陽極酸化皮膜は、膜厚が0.008μm〜2μmの範囲内であり、有孔度が30%以下であり、かつSi、P、B、S、又はCのうち少なくとも1種の元素を成分14として合計で50ppm以上含有している。
請求項（抜粋）：
アルミニウム又はアルミニウム基合金からなる基材の表面に陽極酸化皮膜が形成され、前記の陽極酸化皮膜は、膜厚が0.008μm〜2μmの範囲内であり、有孔度(単位表面積に含まれる総孔面積)が30%以下であり、かつSi、P、B、S、又はCのうち少なくとも1種の元素を成分として合計で50ppm以上含有してなることを特徴とする平版用アルミニウム基板。
IPC (6件)：
C25D 11/04 302 ,  B41N 1/08 ,  B41N 3/03 ,  C25D 11/06 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/09 501
FI (6件)：
C25D 11/04 302 ,  B41N 1/08 ,  B41N 3/03 ,  C25D 11/06 Z ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/09 501
Fターム (22件)：
2H025AA12 ,  2H025AB03 ,  2H025DA18 ,  2H025DA20 ,  2H096AA07 ,  2H096CA03 ,  2H096CA20 ,  2H096LA16 ,  2H114AA04 ,  2H114AA14 ,  2H114AA23 ,  2H114AA28 ,  2H114BA01 ,  2H114DA04 ,  2H114DA21 ,  2H114DA41 ,  2H114DA64 ,  2H114EA03 ,  2H114FA01 ,  2H114FA11 ,  2H114GA02 ,  2H114GA09
引用特許：
審査官引用 (8件)
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