特許
J-GLOBAL ID：200903025947446841

液浸露光装置

発明者：
春見 和之

春見 和之 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-401075
公開番号（公開出願番号）：特開2005-166776
出願日： 2003年12月01日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：
【課題】 ウエハ周辺部の露光を可能とする。また、液浸剤の蒸発によってできるウォータマークの発生を抑止する。【解決手段】 露光時にウエハが移動する範囲全体を覆うカバーを設置し、常に液浸剤がウエハ全面を覆う状態を作る。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
レチクルを照明する照明手段、これによって照明されたレチクル上のパターンをウエハ上に投影する投影光学手段、ウエハを所定位置に位置決めする位置決め手段、投影光学手段とウエハの間を液体で満たす手段を備えた液浸投影露光装置において、投影光学手段はウエハの露光面に対向した位置に露光面に平行な平面の光学素子を有する。さらに、該光学素子の周囲には、前記光学素子平面と同一平面を形成する平面部材が設置されていることを特徴とする。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (2件)：
H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521
Fターム (4件)：
5F046BA04 ,  5F046CB25 ,  5F046CB27 ,  5F046DA07
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 液浸式投影露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-296518   出願人：キヤノン株式会社
  • 国際公開第99/49504号パンフレット

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