特許
J-GLOBAL ID:200903025955678387
半導体装置およびそのテスト方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-068071
公開番号(公開出願番号):特開2000-269281
出願日: 1999年03月15日
公開日(公表日): 2000年09月29日
要約:
【要約】【課題】半導体基板の内部に応力がかかる部分のダメージを簡易に高精度で検出する。【解決手段】半導体基板20と、半導体基板内で平面的にP型半導体領域21とN型半導体領域22とが接合するように形成され、P型半導体領域およびN型半導体領域に所定の逆方向バイアス電圧が印加されるPN接合とを具備する。
請求項(抜粋):
半導体基板と、前記半導体基板内で平面的にP型半導体領域とN型半導体領域とが接合するように形成され、前記P型半導体領域およびN型半導体領域に所定の逆方向バイアス電圧が印加されるPN接合とを具備することを特徴とする半導体装置。
IPC (4件):
H01L 21/66
, G01R 31/26
, H01L 27/04
, H01L 21/822
FI (3件):
H01L 21/66 F
, G01R 31/26 G
, H01L 27/04 T
Fターム (24件):
2G003AA07
, 2G003AB03
, 2G003AC08
, 2G003AE01
, 2G003AH10
, 4M106AA07
, 4M106AA08
, 4M106AB11
, 4M106AB15
, 4M106AC02
, 4M106AC09
, 4M106AD24
, 4M106BA14
, 4M106CA01
, 4M106CA32
, 4M106CA49
, 4M106CA70
, 5F038CA02
, 5F038CA10
, 5F038CD18
, 5F038DT04
, 5F038DT10
, 5F038DT12
, 5F038EZ20
引用特許:
審査官引用 (2件)
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特開昭63-283040
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半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-250226
出願人:富士通株式会社, 株式会社九州富士通エレクトロニクス
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