特許
J-GLOBAL ID:200903025978546720
有機・無機ハイブリッド膜の低温溶融加工
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
坂口 博 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-062285
公開番号(公開出願番号):特開2003-309308
出願日: 2003年03月07日
公開日(公表日): 2003年10月31日
要約:
【要約】【課題】 フラット・パネル・ディスプレイ、非線形の光/光導電デバイス、化学センサ、有機・無機発光ダイオードの発光層および電荷輸送層、有機・無機薄膜トランジスタ、ならびに有機・無機電界効果トランジスタのチャネル層を含めて、様々な用途に使用することができる低コストの溶融加工有機・無機ハイブリッド材料を提供すること。【解決手段】 本発明は、溶融加工有機・無機ハイブリッド材料の製造方法であって、固体有機・無機ハイブリッド材料を、均一溶融物を形成するのに十分な時間、有機・無機ハイブリッド材料の融点より高いが、その分解温度より低い温度に維持するステップと、その後、溶融加工有機・無機ハイブリッド材料を生成するのに十分な条件で、均一溶融物を周囲温度に冷却するステップとを含む方法を提供する。
請求項(抜粋):
溶融加工有機・無機ハイブリッド材料の製造方法であって、固体有機・無機ハイブリッド材料を、均一溶融物を形成するのに十分な時間、前記有機・無機ハイブリッド材料の融点より高いが、その分解温度より低い温度に維持するステップと、前記溶融加工有機・無機ハイブリッド材料を生成するのに十分な条件で、前記均一溶融物を周囲温度に冷却するステップとを含む方法。
IPC (4件):
H01L 51/00
, H01L 21/336
, H01L 29/78
, H01L 29/786
FI (6件):
H01L 29/28
, H01L 29/78 301 B
, H01L 29/78 301 Z
, H01L 29/78 618 B
, H01L 29/78 626 C
, H01L 29/78 618 A
Fターム (14件):
5F110AA30
, 5F110BB01
, 5F110CC07
, 5F110DD01
, 5F110DD02
, 5F110DD03
, 5F110DD04
, 5F110DD05
, 5F110GG05
, 5F110GG12
, 5F110GG13
, 5F110GG42
, 5F140BA00
, 5F140BA18
引用特許:
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