特許
J-GLOBAL ID:200903026002529402
表面改質材料、その製造方法及びその使用
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
森田 憲一
, 山口 健次郎
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-514029
公開番号(公開出願番号):特表2008-501814
出願日: 2005年06月02日
公開日(公表日): 2008年01月24日
要約:
本発明は、開始剤官能基を有する少なくとも1種のジアゾニウム塩の使用に関するものであって、前記ジアゾニウム塩由来のグラフトのグラフト化により得られるアンダーコートを形成して、前記アンダーコートにおいて導体材料又は半導体材料の表面に開始剤官能基をもたらすための前記ジアゾニウム塩の使用、及び、前記開始剤官能基により開始される、少なくとも1種のモノマーのインサイチュー重合、特にフリーラジカル重合、によって得られるポリマー層を、前記アンダーコート上に形成するための前記ジアゾニウム塩の使用に関する。
請求項(抜粋):
重合開始官能基を有する少なくとも1種のジアゾニウム塩の使用であって、一方では、前記ジアゾニウム塩由来のグラフトのグラフト化により得られる基層を形成して、導体材料又は半導体材料の表面に重合開始官能基をもたらすための使用、及び他方では、前記重合開始剤官能基により開始される、少なくとも1種のモノマーの非アニオンインサイチュー重合によって得られるポリマー層を、前記基層上に形成するための使用。
IPC (2件):
FI (3件):
C08F2/00 C
, H01L21/312 A
, H01L21/312 D
Fターム (9件):
4J011CA05
, 4J011CC10
, 4J011SA21
, 4J011XA01
, 5F058AA10
, 5F058AC10
, 5F058AD09
, 5F058AG09
, 5F058AG10
引用特許: