特許
J-GLOBAL ID：200903029672694624

重合性ブラシにおける高分子のアレイおよびそれを調製するための方法

発明者：
マックゴール, グレン

マックゴール, グレン について


出願人/特許権者：
アフィメトリックス インコーポレイテッド

アフィメトリックス インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-266267
公開番号（公開出願番号）：特開2001-131208
出願日： 2000年09月01日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
要約：
【要約】【課題】 高密度高分子アレイについて、種々のアッセイ条件下でよいまたは改良された性能を有させること。【解決手段】 高分子の固相合成に用いるための重合性ブラシ基材を調製する方法であって、以下の工程:(a)1以上のフリーラジカルイニシエーターが共有結合している基材を提供する工程であって、ここで、各フリーラジカルイニシエーターが、該基材から遠位にラジカル生成部位を有する、工程;および(b)該共有結合した基材を、該イニシエーターのラジカル生成部位からのフリーラジカル重合を促進する条件下で、モノマーと接触させて、重合性ブラシを形成する工程、を包含する、方法。
請求項（抜粋）：
高分子の固相合成に用いるための重合性ブラシ基材を調製する方法であって、以下の工程:(a)1以上のフリーラジカルイニシエーターが共有結合している基材を提供する工程であって、ここで、各フリーラジカルイニシエーターが、該基材から遠位にラジカル生成部位を有する、工程;および(b)該共有結合した基材を、該イニシエーターのラジカル生成部位からのフリーラジカル重合を促進する条件下で、モノマーと接触させて、重合性ブラシを形成する工程、を包含する、方法。
IPC (9件)：
C08F 2/00 ,  C08F 20/10 ,  C08F 20/54 ,  C12M 1/00 ,  C12M 1/40 ,  C07H 21/00 ,  C07H 21/04 ,  C12N 15/09 ZNA ,  C12Q 1/68
FI (9件)：
C08F 2/00 C ,  C08F 20/10 ,  C08F 20/54 ,  C12M 1/00 A ,  C12M 1/40 B ,  C07H 21/00 ,  C07H 21/04 A ,  C12Q 1/68 A ,  C12N 15/00 ZNA A
引用特許：
審査官引用 (3件)

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