特許
J-GLOBAL ID：200903026004623430

フォトレジスト用ポリマーとその製造法

発明者：
渡邊 仁志

渡邊 仁志 について

, 
早水 秀隆

早水 秀隆 について


出願人/特許権者：
ダイセル化学工業株式会社

ダイセル化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-034897
公開番号（公開出願番号）：特開2003-231721
出願日： 2002年02月13日
公開日（公表日）： 2003年08月19日
要約：
【要約】【課題】 フォトレジスト用樹脂組成物の調製の際、溶剤に容易に且つ確実に溶解させることのできるフォトレジスト用ポリマーを得る。【解決手段】 本発明のフォトレジスト用ポリマーは、(A)ラクトン骨格を含む繰り返し単位、(B)酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位、及び(C)ヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位から選択された少なくとも1種の繰り返し単位を有するフォトレジスト用ポリマーであって、試料1gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート4gに25°Cで24時間攪拌溶解させたときの不溶分が1重量%以下であることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
(A)ラクトン骨格を含む繰り返し単位、(B)酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位、及び(C)ヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位から選択された少なくとも1種の繰り返し単位を有するフォトレジスト用ポリマーであって、試料1gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート4gに25°Cで24時間攪拌溶解させたときの不溶分が1重量%以下であることを特徴とするフォトレジスト用ポリマー。
IPC (4件)：
C08F220/28 ,  C08F 6/00 ,  C08F220/18 ,  G03F 7/039 601
FI (4件)：
C08F220/28 ,  C08F 6/00 ,  C08F220/18 ,  G03F 7/039 601
Fターム (23件)：
2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB52 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC53P ,  4J100CA05 ,  4J100GC35 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (3件)

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