特許
J-GLOBAL ID：200903072988938404

フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物

発明者：
舩木 克典

舩木 克典 について

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堤 聖晴

堤 聖晴 について

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宝来 晃

宝来 晃 について

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井上 慶三

井上 慶三 について


出願人/特許権者：
ダイセル化学工業株式会社

ダイセル化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-223144
公開番号（公開出願番号）：特開2001-048933
出願日： 1999年08月05日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 優れた透明性、アルカリ可溶性及び密着性を具備するだけでなく、高いエッチング耐性をも備えた高分子化合物を得る。【解決手段】 下記式(I)(式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2及びR3は、同一又は異なって、炭素数1〜8の炭化水素基を示し、R4、R5及びR6は、同一又は異なって、水素原子、ヒドロキシル基又はメチル基を示す。但し、R4〜R6の何れもが水素原子又はヒドロキシル基である場合には、R2及びR3は同時にメチル基であることはない)で表される少なくとも1種のモノマー単位を含む高分子化合物。この高分子化合物はフォトレジスト用樹脂として使用できる。
請求項（抜粋）：
下記式(I)【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2及びR3は、同一又は異なって、炭素数1〜8の炭化水素基を示し、R4、R5及びR6は、同一又は異なって、水素原子、ヒドロキシル基又はメチル基を示す。但し、R4〜R6が各々水素原子又はヒドロキシル基の何れかである場合には、R2及びR3は同時にメチル基であることはない)で表される少なくとも1種のモノマー単位を含む高分子化合物。
IPC (4件)：
C08F 20/18 ,  C08F 20/26 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
C08F 20/18 ,  C08F 20/26 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (23件)：
2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025CB14 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53R ,  4J100BC60R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA36 ,  4J100DA62 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (4件)
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