試料作製装置および試料作製方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-204768
公開番号（公開出願番号）：特開2003-022776
出願日： 2001年07月05日
公開日（公表日）： 2003年01月24日
要約：

【要約】【課題】非傾斜試料台でのイオンビーム加工において、任意の角度で断面加工可能な試料作製装置および作製方法を実現する。【解決手段】イオン源9から放出されるイオンビーム4を集束し、走査、偏向するイオンビーム光学系5を用いて、イオンビーム加工により試料台2に保持された試料1に試料断面を形成するよう構成した試料作製装置において、イオンビーム光学系5のイオンビーム光軸と試料台2面とのなす角度を固定とし、かつ、試料台2の試料台面内での回転により、試料断面の形成を制御してなるよう構成する。装置製造コストの低減に有効な非傾斜試料台による装置構成で、任意の角度でのイオンビーム照射加工が可能となり、精度良い断面が形成できる。

請求項（抜粋）：

荷電粒子源から放出される荷電粒子ビームを集束し、走査、偏向する荷電粒子ビーム光学系を用いて、荷電粒子ビーム加工により試料台に保持された試料に試料断面を形成するよう構成した試料作製装置において、前記荷電粒子ビーム光学系の荷電粒子ビーム光軸と前記試料台面とのなす角度を固定とし、かつ、前記試料台の試料台面内での回転により、前記試料断面の形成を制御してなることを特徴とする試料作製装置。

IPC (3件)：

H01J 37/305 , G01N 1/28 , H01J 37/30

FI (4件)：

H01J 37/305 A , H01J 37/30 A , G01N 1/28 G , G01N 1/28 F

Fターム (19件)：

2G052AA13 , 2G052AB00 , 2G052AC28 , 2G052AD32 , 2G052AD52 , 2G052BA02 , 2G052EC18 , 2G052FD11 , 2G052GA33 , 2G052HC04 , 2G052HC06 , 2G052JA01 , 2G052JA09 , 5C034AA02 , 5C034AB03 , 5C034AB04 , 5C034BB04 , 5C034BB06 , 5C034BB07

引用特許：

出願人引用 (4件)

集束イオンビ-ム加工装置およびエッチング加工方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-007029 出願人：シャープ株式会社
特開平4-065825
特開平3-166744

全件表示

審査官引用 (9件)

集束イオンビ-ム加工装置およびエッチング加工方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-007029 出願人：シャープ株式会社
特開平4-065825
特開平3-166744

全件表示

前のページに戻る