特許
J-GLOBAL ID：200903026040212943
マクロ検査装置及びプロセスモニタリング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-018693
公開番号（公開出願番号）：特開平10-221040
出願日： 1997年01月31日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：
【要約】【課題】 一枚単位では検出できない欠陥を検出したり、また良品基板しか流れていない場合でも、プロセスの微妙な変調を統計的に捕まえて欠陥の発生を時前に予測し欠陥発生を回避させる。【解決手段】 照明手段21,41及び撮像手段29を有し、製造プロセスからの検査対象27を撮像し、その撮像結果を処理するマクロ検査装置において、撮像手段に取り込まれた検査対象の画像M1を加算蓄積させて加算蓄積画像M4を作成する画像処理手段31と、加算蓄積画像における濃度分布を統計処理し、その処理結果を解析することで、製造プロセスの良否を判定するプロセスモニタリング手段33とを備えたマクロ検査装置。
請求項（抜粋）：
照明手段及び撮像手段を有し、製造プロセスからの検査対象を撮像し、その撮像結果を処理するマクロ検査装置において、前記撮像手段に取り込まれた前記検査対象の画像を加算蓄積させて加算蓄積画像を作成する画像処理手段と、前記加算蓄積画像における濃度分布を統計処理し、その処理結果を解析することで、製造プロセスの良否を判定するプロセスモニタリング手段とを備えたことを特徴とするマクロ検査装置。
IPC (4件)：
G01B 11/30
, G01N 21/88
, G06T 7/00
, H01L 21/66
G01B 11/30 C
, G01N 21/88 E
, H01L 21/66 J
, G06F 15/62 405 A
