検査用マスクおよび露光装置の検査方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-272075
公開番号（公開出願番号）：特開2003-075990
出願日： 2001年09月07日
公開日（公表日）： 2003年03月12日
要約：

【要約】【課題】光による像を全方向にわたって略均等に、かつ容易に作ることができる検査用マスク、および露光装置の光学系を高い精度で容易に検査できる露光装置の検査方法を提供する。【解決手段】所定波長を含む露光光7が透過可能な光透過基板3の両面に、光7を散乱させつつ透過させる光散乱部2と、光7の通過を遮る遮光部4とを対向させて検査用マスク1を形成する。遮光部4の中央部に光7が通過可能な大きさのピンホール5を設ける。散乱部2を露光装置6の照明光学系9側に、ピンホール5を投影光学系11側に向けてマスク1を配置し、ウェーハ10を投影光学系11の焦点位置Ajから所定量dずらした位置Adで露光する。散乱部2を直進してピンホール5を通過した光18が作る像17と、光散乱部2により進行方向を変えられてピンホール5を通過した光19が作る像18とをそれぞれ測定する。

請求項（抜粋）：

所定の波長からなる光が透過可能な材料によって形成された光透過基板と、この光透過基板の一主面側に設けられており、前記光を散乱させつつ透過させる光散乱部と、前記光透過基板の前記光散乱部が設けられている側とは反対側の面に設けられており、前記光の通過を遮ることが可能な材料によって形成され、前記光散乱部に入射して前記光透過基板を透過した前記光が通過可能な大きさに形成された光通過孔が設けられた遮光部と、を具備することを特徴とする検査用マスク。

IPC (5件)：

G03F 1/08 , G01J 9/00 , G01M 11/02 , G02B 5/00 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 1/08 P , G01J 9/00 , G01M 11/02 B , G02B 5/00 Z , H01L 21/30 516 A

Fターム (12件)：

2G086HH05 , 2G086HH07 , 2H042AA14 , 2H042AA15 , 2H042AA25 , 2H095BE05 , 5F046AA25 , 5F046BA03 , 5F046CB17 , 5F046DA12 , 5F046DA13 , 5F046DB11

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平3-065623
露光装置の検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-187624 出願人：株式会社東芝
特開平3-065623

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