特許
J-GLOBAL ID：200903026195562630
プラズマ化学反応装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-196455
公開番号（公開出願番号）：特開平8-057298
出願日： 1994年08月22日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：
【要約】【目的】 放電電圧中のイオンへの注入電力を小さくし、かつ放電電力の平均値を低減させて、効率を向上させることができるプラズマ化学反応装置を提供する。【構成】 一対の金属電極6,7間に、電子は追従できるがイオンは追従できない周波数で高周波高電圧を高周波電源11から印加する。一対の電極6,7間の間隙に送風装置14から原料ガス4を送り込み、間隙に生じるプラズマ化学反応により原料ガスを処理する。パルス変調回路12により高周波電源11からの出力に対してはパルス変調がかけられる。
請求項（抜粋）：
一対の電極と、この一対の電極間に高周波高電圧を印加する高周波電源と、前記一対の電極間の間隙に原料ガスを送り込み、この間隙に生じるプラズマ化学反応により原料ガスを処理し、処理ガスとして排出する送風装置と、前記高周波電源に接続され、高周波電源からの出力にパルス変調をかけてパルスデューティを所定値に設定するパルス変調回路と、を備え、前記高周波高電圧は高周波電源によりプラズマ化学反応中の電子は追従できるが、イオンは追従できない周波数で印加されることを特徴とするプラズマ化学反応装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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