特許

J-GLOBAL ID：200903026225249320

クリーニングガス

発明者： 毛利 勇 ,  大橋 満也
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-206708
公開番号（公開出願番号）：特開2000-038675
出願日： 1998年07月22日
公開日（公表日）： 2000年02月08日
要約：

【要約】【課題】 CVD法、スパッタリング法などを用いて薄膜等の製造する装置において装置内壁、冶具等に堆積した不要な堆積物を除去するためのクリーニングガスを提供する。【解決手段】 薄膜形成装置の中に生成した不要な堆積物を除去するための、CF3OOCF3からなるガスを含有したクリーニングガスで、さらに、CF3OOCF3からなるガスとハロゲンガスまたはハロゲン含有化合物ガスとを含有したクリーニングガス。

請求項（抜粋）：

薄膜形成装置の中に生成した不要な堆積物を除去するための、CF3OOCF3からなるガスを含有したクリーニングガス。

IPC (7件)：

C23C 16/44 ,  C11D 7/02 ,  C11D 7/28 ,  C11D 17/00 ,  C23C 14/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (7件)：

C23C 16/44 J ,  C11D 7/02 ,  C11D 7/28 ,  C11D 17/00 ,  C23C 14/00 B ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 F

Fターム (77件)：

4H003BA12 ,  4H003BA28 ,  4H003DA15 ,  4H003EA31 ,  4H003ED32 ,  4K029AA26 ,  4K029AA27 ,  4K029BA02 ,  4K029BA04 ,  4K029BA05 ,  4K029BA07 ,  4K029BA11 ,  4K029BA12 ,  4K029BA14 ,  4K029BA16 ,  4K029BA17 ,  4K029BA33 ,  4K029BA35 ,  4K029BA43 ,  4K029BA55 ,  4K029BA58 ,  4K029BD01 ,  4K029CA01 ,  4K029CA05 ,  4K029DC35 ,  4K029FA05 ,  4K030AA03 ,  4K030AA04 ,  4K030AA10 ,  4K030AA13 ,  4K030AA14 ,  4K030AA16 ,  4K030AA17 ,  4K030AA18 ,  4K030BA01 ,  4K030BA13 ,  4K030BA14 ,  4K030BA15 ,  4K030BA17 ,  4K030BA18 ,  4K030BA19 ,  4K030BA20 ,  4K030BA25 ,  4K030BA29 ,  4K030BA36 ,  4K030BA38 ,  4K030BA42 ,  4K030CA15 ,  4K030DA04 ,  4K030EA01 ,  4K030FA02 ,  4K030FA03 ,  4K030HA15 ,  4K030JA06 ,  4K030KA24 ,  4K030KA25 ,  5F004AA15 ,  5F004BC06 ,  5F004BD04 ,  5F004BD05 ,  5F004DA00 ,  5F004DA04 ,  5F004DA20 ,  5F004DA22 ,  5F004DA23 ,  5F004DA24 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26 ,  5F004DA29 ,  5F004DB08 ,  5F004DB12 ,  5F004DB13 ,  5F045AA08 ,  5F045BB14 ,  5F045EB06 ,  5F045EH13 ,  5F045EK30

引用特許：

審査官引用 (4件)

• クリーニングガス、エッチングガス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-096985   出願人：セントラル硝子株式会社
• 特開平4-048075
  
• エッチングガス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-206707   出願人：セントラル硝子株式会社
• 特開平4-048075