特許
J-GLOBAL ID：200903026232412695
均一なシリル化剤層を有する珪酸
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-296475
公開番号（公開出願番号）：特開2003-213155
出願日： 2002年10月09日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：
【要約】【課題】 腐食の問題、ひいては特殊な材料のための付加的な費用および高められた清浄化、ならびに環境汚染および/または高価な費用のかかる排ガス操作および排ガス浄化操作を生じるといった公知技術水準の欠点を克服した、均一なシリル化剤層を有する珪酸の製造法を提供する。【解決手段】 珪酸を式(I):(R13SiO1/2)(I)で示されるA単位と式(IIa)、(IIb)、(IIc):(R12SiO2/2)(IIa)および/または(R1SiO3/2)(IIb)および/または(SiO4/2)(IIc)で示されるB単位とから構成されたオルガノシロキサンでシリル化する。
請求項（抜粋）：
シリル化珪酸の製造法において、珪酸を式(I)(R<SP>1</SP><SB>3</SB>SiO<SB>1/2</SB>) (I)で示されるA単位と式(IIa)、(IIb)、(IIc)(R<SP>1</SP><SB>2</SB>SiO<SB>2/2</SB>) (IIa)および/または(R<SP>1</SP>SiO<SB>3/2</SB>) (IIb)および/または(SiO<SB>4/2</SB>) (IIc)で示されるB単位とから構成されたオルガノシロキサンでシリル化し、この場合前記オルガノシロキサンは、Si原子1または2個に結合した基-Xを有することができ、Xは、OZであり、この場合Zは、1〜4個のC原子を有する1価アルキル基であるかまたはZは、水素であり、またはXは、ハロゲンであり、またはXは、アセトキシ基であり、上記式中、R<SP>1</SP>は、場合によっては1回または数回不飽和の1価のハロゲン化されていてよい、1〜18個のC原子を有する炭化水素基であり、その際同一でも異なっていてもよく、この場合前記オルガノシロキサンは、基≡SiXまたは=SiX<SB>2</SB>を数Cで有していてよく、A、BおよびCについては、以下の通り:1≦B≦100または750<B<10000B≧A+Cに当てはまり、A+C=0については、以下の通り:10≦B≦100または750<B<10000が当てはまることを特徴とする、シリル化珪酸の製造法。
IPC (6件)：
C09C 1/30
, C01B 33/159
, C08K 9/06
, C08L 21/00
, C09C 3/12
, G03G 9/08 368
C09C 1/30
, C01B 33/159
, C08K 9/06
, C08L 21/00
, C09C 3/12
, G03G 9/08 368
2H005AA06
, 2H005CB13
, 4G072AA41
, 4G072CC10
, 4G072CC16
, 4G072GG01
, 4G072GG02
, 4G072GG03
, 4G072HH19
, 4G072HH28
, 4G072QQ06
, 4G072QQ07
, 4G072QQ09
, 4G072RR07
, 4G072UU07
, 4J002AC001
, 4J002CP021
, 4J002DJ016
, 4J002FB096
, 4J002FB266
, 4J002FD016
, 4J037AA17
, 4J037CC28
, 4J037CC29
, 4J037DD05
, 4J037DD07
, 4J037DD11
, 4J037EE02
, 4J037EE03
, 4J037EE25
, 4J037EE47
, 4J037FF28
