スピン処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-263972
公開番号（公開出願番号）：特開平11-102883
出願日： 1997年09月29日
公開日（公表日）： 1999年04月13日
要約：

【要約】【課題】この発明は半導体ウエハを洗浄処理する際に、空気流の乱れによってパ-ティクルが付着するのを防止したスピン処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】半導体ウエハ21を回転させて処理するスピン処理装置において、回転駆動される回転テ-ブル9と、この回転テ-ブルの周辺部に周方向に所定間隔で設けられ上端に上記半導体ウエハの周縁部を保持する支持ピン16が設けられた複数の保持部材11と、上記回転テ-ブルに設けられこの回転テ-ブルの回転にともない上記半導体ウエハの下面に空気流が発生するのを規制する規制部材101とを具備したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

ワ-クを回転させて処理するスピン処理装置において、回転駆動される回転テ-ブルと、この回転テ-ブルの周辺部に周方向に所定間隔で設けられ上端に上記ワ-クの周縁部を保持する保持部が設けられた複数の保持部材と、上記回転テ-ブルに設けられこの回転テ-ブルの回転にともない上記ワ-クの下面に空気流が発生するのを規制する規制手段とを具備したことを特徴とするスピン処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 351

FI (2件)：

H01L 21/304 341 N , H01L 21/304 351 S

引用特許：

審査官引用 (9件)

回転式基板処理装置の基板回転保持具
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-294212 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開昭60-064436
特開昭60-064436

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