特許
J-GLOBAL ID:200903026248606066
多硫化物の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
角田 衛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-240399
公開番号(公開出願番号):特開2001-064790
出願日: 1999年08月26日
公開日(公表日): 2001年03月13日
要約:
【要約】【課題】パルプ製造工程の白液からチオ硫酸イオンの副生が極めて少なく高濃度の多硫化硫黄を含む蒸解液を、高選択率かつ低電圧で長期に安定して製造する。【解決手段】電解酸化により多硫化物を製造する方法であって、隔膜の陽イオン交換膜のカソード側表面に無機粒子を含む親水性多孔層が形成され、かつ、陽イオン交換膜のアノード室側の表面のJIS B0601に規定される算術平均粗さが0.5μm以下である。
請求項(抜粋):
アノードを備えたアノード室、カソードを備えたカソード室、および、アノード室とカソード室とを区画する陽イオン交換膜を有する電解槽を用い、該アノード室に硫化アルカリを含む溶液を供給し、該カソード室に水酸化アルカリ水溶液または水を供給して、アノードおよびカソードに通電することにより、カソード室で水およびアノード室から陽イオン交換膜を通過してくるアルカリイオンとから水素ガスと水酸化アルカリを製造しつつ、アノード室で硫化アルカリに起因する硫化物イオンを多硫化物イオンに酸化して多硫化物を製造する方法であって、該陽イオン交換膜のカソード室側表面に無機粒子を含む親水性多孔層が形成され、かつ、該陽イオン交換膜のアノード室側の表面のJIS B0601に規定される算術平均粗さが0.5μm以下である多硫化物の製造方法。
IPC (10件):
C25B 1/28
, C25B 1/00
, C25B 9/00
, C25B 13/02 301
, C25B 13/04 301
, C08J 5/22 CEW
, C08J 5/22 101
, C08L 27:18
, C08L 27:24
, C08L 29:10
FI (7件):
C25B 1/28
, C25B 13/02 301
, C25B 13/04 301
, C08J 5/22 CEW
, C08J 5/22 101
, C25B 1/00 Z
, C25B 9/00 E
Fターム (20件):
4F071AA26
, 4F071AA27
, 4F071AA30
, 4F071AH02
, 4F071FA02
, 4F071FA05
, 4F071FA06
, 4F071FA07
, 4F071FB01
, 4F071FC01
, 4K021AA01
, 4K021AB01
, 4K021AB15
, 4K021AB25
, 4K021BA01
, 4K021DB05
, 4K021DB31
, 4K021DB34
, 4K021DB56
, 4K021DC15
引用特許:
出願人引用 (2件)
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特開昭56-075583
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電解酸化による多硫化物の製造方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願平9-538745
出願人:旭硝子株式会社, 川崎化成工業株式会社
審査官引用 (2件)
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特開昭56-075583
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電解酸化による多硫化物の製造方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願平9-538745
出願人:旭硝子株式会社, 川崎化成工業株式会社
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