ホウ素固定剤およびホウ素含有排水の処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-077601
公開番号（公開出願番号）：特開2000-263064
出願日： 1999年03月23日
公開日（公表日）： 2000年09月26日
要約：

【要約】【課題】ホウ素含有排水を基準以下まで容易に処理することが可能で、さらに添加量が少量で済むためスラッジ発生量が低減でき、さらに設備を小規模にすることができるホウ素固定剤およびホウ素含有排水の処理方法を提供する。【解決手段】ランタン化合物からなることを特徴とするホウ素固定剤。

請求項（抜粋）：

ランタン化合物からなることを特徴とするホウ素固定剤。

Fターム (8件)：

4D038AA08 , 4D038AB25 , 4D038AB39 , 4D038BB04 , 4D038BB08 , 4D038BB17 , 4D038BB18 , 4D038BB20

引用特許：

出願人引用 (10件)

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審査官引用 (2件)

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