特許
J-GLOBAL ID：200903026338304166
パターン形成方法およびパターン形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-009692
公開番号（公開出願番号）：特開2007-190745
出願日： 2006年01月18日
公開日（公表日）： 2007年08月02日
要約：
【課題】無駄になる液体受容性粒子を低減する。【解決手段】制御部200は、高電圧電源202を制御し、中間転写体12の副走査方向の所定の範囲を帯電するように制御する。記録媒体8の副走査方向の長さに対応する用紙範囲L1に対して、高電圧電源202をオン・オフし、用紙範囲L1にのみ中間転写体12を帯電する。したがって、次工程では、帯電した用紙範囲L1のみにインク受容性粒子層16Aが形成される。或いは、画像が形成される領域の副走査方向の長さに対応して、高電圧電源202をオン・オフし、画像範囲L2のみ中間転写体12を帯電してインク受容性粒子層16Aを形成しても良い。記録媒体8に転写されない領域、あるいは画像が形成されない領域にインク受容性粒子16Aが形成されないので、無駄に消費されるインク受容性粒子16が格段に少なくなる。よって、ランコストが大幅に低減する。【選択図】図12
請求項（抜粋）：
記録材を含む記録液体を受容可能な液体受容性粒子を用いて、中間転写体上の所定の範囲に液体受容性粒子層を形成する粒子層形成工程と、
所定のデータに基づいて前記液体受容性粒子層の所定の位置に前記記録液体の液滴を付与すると共に、前記中間転写体上の前記液体受容性粒子層の表面近傍に前記記録材をトラップして、前記液体受容性粒子層の表面近傍に前記記録材のパターンを形成するパターン形成工程と、
前記パターンが被転写体と前記液体受容性粒子層で挟まれるように、前記記録液体が付与された前記液体受容性粒子層を前記中間転写体から剥離して前記被転写体に転写する剥離転写工程と、
を含むことを特徴とするパターン形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B41M5/00 A
, B41J3/04 101Z
2C056EA30
, 2C056FD13
, 2H186AB02
, 2H186AB17
, 2H186AB22
, 2H186AB23
, 2H186AB34
, 2H186AB41
, 2H186AB44
, 2H186AB55
, 2H186BA11
, 2H186BB04X
, 2H186BB05X
, 2H186BB10X
, 2H186BB32X
, 2H186BB36X
, 2H186BC02X
, 2H186BC27X
, 2H186BC69X
, 2H186BC71X
, 2H186BC72X
, 2H186BC75X
, 2H186BC76X
, 2H186CA01
, 2H186DA08
, 2H186DA18
, 2H186FA18
, 2H186FB11
, 2H186FB15
, 2H186FB16
, 2H186FB17
, 2H186FB25
, 2H186FB29
, 2H186FB54
出願人引用 (3件)
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インクジェット記録方法および装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-200855
出願人：セイコーエプソン株式会社
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記録方法及び装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平9-359208
出願人：株式会社リコー
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画像形成装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-272683
出願人：株式会社サムスン横浜研究所
審査官引用 (1件)
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蓋付き墓用花立て
公報種別：公開公報
出願番号：特願2002-223285
出願人：有限会社岩崎石材
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