特許
J-GLOBAL ID:200903026371436655
サファイア上に二酸化チタン粒子を周期配列させる方法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
社本 一夫 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-259278
公開番号(公開出願番号):特開2003-063892
出願日: 2001年08月29日
公開日(公表日): 2003年03月05日
要約:
【要約】【課題】 本発明では、熱処理でステップ構造が変化するというサファイア基板の特長を利用して、光触媒二酸化チタン粒子をサファイア基板上にナノオーダーの周期で配列させることによって光触媒の効率を向上させることを課題とする。【解決手段】 本発明では、レーザー蒸着成膜法により、サファイア上に20nm以下の厚さの二酸化チタンを成膜し、この膜を熱処理することによって周期配列をもった二酸化チタンを作製する方法を解決手段とする。
請求項(抜粋):
レーザー蒸着成膜法により、サファイア上に20nm以下の厚さの二酸化チタンを成膜し、この膜を熱処理することによって周期配列をもった二酸化チタンを作製する方法。
IPC (7件):
C30B 29/16
, B01J 21/06
, B01J 35/02
, C01G 23/07
, C23C 14/08
, C23C 14/28
, C23C 14/58
FI (7件):
C30B 29/16
, B01J 21/06 M
, B01J 35/02 J
, C01G 23/07
, C23C 14/08 E
, C23C 14/28
, C23C 14/58 A
Fターム (41件):
4G047CA02
, 4G047CB08
, 4G047CC03
, 4G047CD02
, 4G047CD04
, 4G069AA08
, 4G069BA01A
, 4G069BA01B
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA48A
, 4G069EA11
, 4G069EB15X
, 4G069EB15Y
, 4G069EC22X
, 4G069EC22Y
, 4G069FA03
, 4G069FB02
, 4G069FB29
, 4G069FB58
, 4G069FC07
, 4G077AA03
, 4G077BB04
, 4G077DA03
, 4G077EA02
, 4G077EA05
, 4G077EA07
, 4G077ED06
, 4G077FE11
, 4G077HA20
, 4G077SA04
, 4G077SA07
, 4K029AA07
, 4K029BA48
, 4K029CA02
, 4K029DB20
, 4K029EA01
, 4K029EA03
, 4K029EA05
, 4K029EA08
, 4K029GA01
引用特許:
引用文献:
前のページに戻る