特許

J-GLOBAL ID：200903026391403230

対象物処理装置及び対象物処理方法

発明者： 砂金 養一 ,  山口 隆太 ,  田島 かおり ,  織 浩介
出願人/特許権者： アクアサイエンス株式会社
代理人 (1件)： 萩原 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-146779
公開番号（公開出願番号）：特開2004-349577
出願日： 2003年05月23日
公開日（公表日）： 2004年12月09日
要約：

【課題】剥離及び洗浄工程で基板への損傷を最小に抑え、低コストで低ダメージ、環境に優しいプロセスを実現することができる対象物処理装置及び方法を提供すること。【解決手段】処理対象面を有する対象物に対して、剥離/洗浄/加工のいずれかを含む処理を行うための対象物処理装置に、大気圧または減圧雰囲気で前記対象物を載置するステージ部と、純水を所定値に加圧した加圧温水をノズル部に供給する加圧温水供給部と、処理対象面に対し、加圧温水または加圧温水と薬液との混合物を噴出するノズル部とを設ける。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

処理対象面を有する対象物に対して、剥離/洗浄/加工のいずれかを含む処理を行うための対象物処理装置であって、 大気圧または減圧雰囲気で前記対象物を載置するステージ部と、 純水を所定値に加圧した加圧温水をノズル部に供給する加圧温水供給部と、 前記処理対象面に対し、前記加圧温水または前記加圧温水と薬液との混合物を噴出するノズル部と を具備したことを特徴とする対象物処理装置。

IPC (4件)：

H01L21/304 ,  B08B3/02 ,  G03F7/42 ,  H01L21/027

FI (8件)：

H01L21/304 643Z ,  H01L21/304 643B ,  H01L21/304 643C ,  H01L21/304 648K ,  B08B3/02 B ,  B08B3/02 D ,  G03F7/42 ,  H01L21/30 572B

Fターム (27件)：

2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096AA30 ,  2H096LA02 ,  2H096LA03 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB39 ,  3B201AB48 ,  3B201BB22 ,  3B201BB32 ,  3B201BB36 ,  3B201BB38 ,  3B201BB46 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB94 ,  3B201BB96 ,  3B201BB98 ,  3B201CB01 ,  3B201CD11 ,  3B201CD24 ,  5F046MA03 ,  5F046MA06

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-370931
  
• 基板処理方法及び基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-009207   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 噴流加工装置、噴流加工システムおよび噴流加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-263519   出願人：株式会社東芝