特許

J-GLOBAL ID：200903026449532621

化学増幅ポジ型レジスト材料

発明者： 渡辺 聡 ,  及川 勝之 ,  竹田 好文 ,  名倉 茂広
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-246873
公開番号（公開出願番号）：特開平9-068803
出願日： 1995年08月31日
公開日（公表日）： 1997年03月11日
要約：

【要約】【課題】 高エネルギー線、特にKrFエキシマレーザーに感応し、解像性、保存安定性、成膜性に優れ、しかもレジストパターンの耐熱性にも優れて微細加工技術に適した化学増幅ポジ型レジスト材料を得る。【解決手段】 (A)少なくとも1個の酸不安定基を有する沸点90〜200°Cの有機溶剤(B)アルカリ可溶性樹脂(C)酸発生剤、必要により(D)酸不安定基を有する溶解阻止剤(E)フッ素系界面活性剤を配合する。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂と酸発生剤と有機溶剤とを含有する化学増幅ポジ型レジスト材料において、上記有機溶剤が少なくとも1個の酸不安定基を有する沸点90〜200°Cの有機溶剤を含むことを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。

IPC (6件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-261875   出願人：日本合成ゴム株式会社
• レジスト組成物およびそれを用いたパタン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-045254   出願人：株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社