特許
J-GLOBAL ID：200903026517898400

基板処理装置

発明者：
村岡 祐介

村岡 祐介 について

, 
清瀬 浩巳

清瀬 浩巳 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-296960
公開番号（公開出願番号）：特開平11-135472
出願日： 1997年10月29日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：
【要約】【課題】 装置のコストを上昇させることなく、基板に供給される処理液の液量を常に一定に保つこと。【解決手段】 処理液貯溜部10の処理液をポンプ22によってマニホールド24に導く。そして、マニホールド24において処理液を複数の処理室51,52に分岐させることにより、処理室毎に処理液貯溜部10やポンプ22を備える必要がなくなり、装置コストの低下を図ることができる。また、マニホールド24内の圧力を一定にするように、圧力センサ25によって検出される圧力に基づいて圧力制御部PCがモータ21を駆動するため、複数の処理室供給路31〜34に導かれる処理液の圧力を均一にすることができる。そして、各処理室供給路31〜34のそれぞれに対して流量制御部FC1〜FC4等が設けられているため、各処理室51,52の基板に供給される処理液の液量を調整することができる。
請求項（抜粋）：
基板に対して所定の処理を行う基板処理装置であって、(a) 基板に処理液を供給して所定の処理を行うための複数の処理部と、(b) 処理液を貯溜する処理液貯溜部と、(c) 前記処理液貯溜部から処理液を送出するために一端が前記処理液貯溜部に連通している上流側供給路と、(d) 前記複数の処理部のそれぞれに処理液を供給するために一端が前記複数の処理部と連通している複数の下流側供給路と、(e) 前記上流側供給路の他端と前記複数の下流側供給路の他端のそれぞれとに連通され、前記上流側供給路を前記複数の下流側供給路へ分岐する分岐手段と、(f) 前記処理液貯溜部から前記分岐手段へ処理液を供給させる処理液送出手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341 ,  H01L 21/02
FI (2件)：
H01L 21/304 341 Z ,  H01L 21/02 Z
引用特許：
審査官引用 (3件)

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