特許
J-GLOBAL ID：200903026523669154

基板洗浄装置および基板洗浄方法

発明者：
岡本 伊雄

岡本 伊雄 について

, 
和田 卓也

和田 卓也 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 川崎 実夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-124708
公開番号（公開出願番号）：特開2003-318148
出願日： 2002年04月25日
公開日（公表日）： 2003年11月07日
要約：
【要約】【課題】基板の中央部だけでなく、周縁部も良好に洗浄することができる基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。【解決手段】基板Wの上方で揺動可能なスキャンアーム22には、スキャンアーム22が基板Wの回転中心上を通るように延びた状態で、それぞれ基板Wの回転中心および周縁部に洗浄液を入射させることができるように、第1および第2の超音波ノズル23,24が取り付けられている。基板Wの洗浄処理の際には、スピンチャック1によって基板Wが水平面内で回転されつつ、その回転している基板Wの上面に、第1および第2の超音波ノズル23,24から超音波振動の付与された洗浄液が供給される。その際、スキャンアーム22が所定の角度範囲内で繰り返し揺動される。
請求項（抜粋）：
基板を回転させつつ基板の表面に洗浄液を供給して基板を洗浄する基板洗浄装置であって、超音波振動が付与された洗浄液を基板の中央部に向けて供給する第1の超音波ノズルと、超音波振動が付与された洗浄液を基板の周縁部に向けて供給する第2の超音波ノズルとを含むことを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/12
FI (5件)：
H01L 21/304 643 D ,  H01L 21/304 643 A ,  B08B 3/02 D ,  B08B 3/12 B ,  B08B 3/12 C
Fターム (10件)：
3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB33 ,  3B201AB42 ,  3B201BB02 ,  3B201BB22 ,  3B201BB45 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92 ,  3B201BB96
引用特許：
審査官引用 (1件)

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