特許
J-GLOBAL ID：200903019276424732

基板洗浄方法及び基板洗浄装置並びに液晶表示装置及びその製造方法

発明者：
久保田 健

久保田 健 について

, 
野口 和彦

野口 和彦 について

, 
薮下 宏二

薮下 宏二 について


出願人/特許権者：
三菱電機株式会社

三菱電機株式会社 について


代理人 (1件)： 大岩 増雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-054902
公開番号（公開出願番号）：特開平11-244796
出願日： 1998年03月06日
公開日（公表日）： 1999年09月14日
要約：
【要約】【課題】 従来の基板洗浄装置と同程度の装置コストで、基板の中心部付近と外周部において均一な洗浄効果が得られる基板洗浄方法及び装置を提供する。【解決手段】 基板1を所定の速度で回転させながら、アーム2に所定の間隔を置いて取り付けられた3本のブラシ3a、3b、3cを、基板1の中心部を通る円弧状の軌跡で複数回走査させる。ブラシ3aは、基板1の中心部から外周部にかけて全範囲を走査し、ブラシ3bは基板1の中心部付近を除く周辺の範囲、ブラシ3cはブラシ3bよりもさらに外周部を走査する。このように、基板1表面を走査するブラシの本数を、基板1の中心部付近よりも外周部に対して多くすることにより、基板の中心部付近と外周部の単位面積当たりの洗浄時間がほぼ等しくなり、基板1全面に均一な洗浄効果が得られる。また、ブラシ洗浄の他に、ノズルから超音波の発振を乗せた純水を噴射する超音波洗浄にも適用できる。
請求項（抜粋）：
被洗浄体である基板を所定の速度で回転させながら、上記基板表面に物理的な力を作用させる処理機構が取り付けられたアームを、上記基板上の所定の範囲内で複数回走査させ、上記物理的な力により上記基板表面の付着物を除去する基板洗浄方法であって、上記物理的な力を作用させる回数を、上記基板の中心部付近よりも外周部に対して多くしたことを特徴とする基板洗浄方法。
IPC (5件)：
B08B 1/04 ,  B08B 3/02 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 643
FI (6件)：
B08B 1/04 ,  B08B 3/02 B ,  B08B 3/02 D ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 643 A
引用特許：
審査官引用 (7件)
  • 回転式基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-307714   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 半導体基板の洗浄方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-284790   出願人：株式会社東芝, 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社
  • 特開平4-044227
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM