特許
J-GLOBAL ID:200903026527341730
紫外線光エミッタを備えた流体浄化システム
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
熊倉 禎男
, 大塚 文昭
, 西島 孝喜
, 須田 洋之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-193364
公開番号(公開出願番号):特開2006-346676
出願日: 2006年06月16日
公開日(公表日): 2006年12月28日
要約:
【課題】多孔板に取り付けられたUV光エミッタを使用する流体浄化のシステムを提供する。【解決手段】流体を浄化するためのシステムは、流体中に存在する微生物を不活性にするために紫外線(UV)光を用いる。システムは、多孔板上にUV光エミッタの構成を有する。流体は、多孔板内の穿孔を通過する間に、UV光エミッタにより放出されたUV光に露出される。流体中に存在する微生物は、UV光エミッタの非常に近くを通る。微生物に吸収されたUV光は、遺伝子損傷と不活性化を引き起こす。システムは、UV光エミッタへ電力を供給する電力ユニットに流体の物理的特性に関するフィードバックを提供するフィードバックユニットを有する。電力ユニットは、フィードバックに基づいてUV光エミッタへ供給される電力の量を変化させる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
流体を浄化するためのシステムであって、
流体を通過させる1つ又はそれよりも多くの多孔板と、
前記1つ又はそれよりも多くの多孔板上に取り付けられた1つ又はそれよりも多くの紫外線光エミッタと、
前記流体に対する少なくとも1つの入口と少なくとも1つの出口とを有し、前記1つ又はそれよりも多くの多孔板を収容するチャンバと、
を含むことを特徴とするシステム。
IPC (3件):
B01J 19/12
, C02F 1/32
, A61L 9/20
FI (3件):
B01J19/12 C
, C02F1/32
, A61L9/20
Fターム (22件):
4C058AA20
, 4C058AA30
, 4C058BB06
, 4C058KK02
, 4C058KK28
, 4C058KK46
, 4C080AA10
, 4C080BB05
, 4C080BB06
, 4C080QQ11
, 4D037AA01
, 4D037AB03
, 4D037BA18
, 4D037BB01
, 4G075AA03
, 4G075AA15
, 4G075BA10
, 4G075CA33
, 4G075DA01
, 4G075EB01
, 4G075EB33
, 4G075FA02
引用特許:
審査官引用 (6件)
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光触媒装置、脱臭装置および冷蔵庫
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-321009
出願人:東芝ライテック株式会社
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光触媒用光源
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-118179
出願人:株式会社日立製作所
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光触媒清浄ユニットおよび空気清浄機ならびに発光ダイオード
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-186136
出願人:東芝ライテック株式会社
-
流体処理システム
公報種別:公表公報
出願番号:特願2001-504853
出願人:アクセスビジネスグループインターナショナルリミテッドライアビリティカンパニー
-
人工暴露装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-311209
出願人:アトラスマテリアルテスティングテクノロジーゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
-
ガス供給装置と成膜装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-342922
出願人:株式会社日立製作所
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