塩基性化合物、レジスト材料及びパターン形成方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：奥山尚一 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-164043
公開番号（公開出願番号）：特開2002-363146
出願日： 2001年05月31日
公開日（公表日）： 2002年12月18日
要約：

【要約】【課題】より高いコントラスト、即ちより広いフォーカスマージンを有するとともに、密集パターンと孤立パターンの寸法比の問題を解決したレジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】下記一般式(1)、一般式(2)及び一般式(3)で表される塩基性化合物を提供し、また、下記一般式(5)〜(9)からなる一群から選ばれる塩基性化合物の1種又は2種以上を含有することを特徴とするレジスト材料を提供する。さらに、これらのレジスト材料を基板上に塗布する工程と、次いで加熱処理後、フォトマスクを介して波長300nm以下の高エネルギー線もしくは電子線で露光する工程と、必要に応じて加熱処理した後、現像液を用いて現像する工程と、を含むパターン形成方法を提案するものである。【化1】

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される塩基性化合物。【化1】(上式中、R0は炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、ヒドロキシ基、エーテル基、カルボニル基、エステル基、ラクトン環、又はカーボネート基を含んでも良い。aは1又は2であり、bは1又は2であり、かつa+b=3を満足する。)

IPC (10件)：

C07C215/12 , C07C217/64 , C07C219/06 , C07C229/14 , C07C255/24 , C07D295/02 , G03F 7/004 501 , G03F 7/038 601 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (10件)：

C07C215/12 , C07C217/64 , C07C219/06 , C07C229/14 , C07C255/24 , C07D295/02 , G03F 7/004 501 , G03F 7/038 601 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (26件)：

2H025AA00 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025CC03 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB92 , 4H006BJ50 , 4H006BN10 , 4H006BP10 , 4H006BT12 , 4H006BU38 , 4H006BU40 , 4H006QN30

引用特許：

審査官引用 (7件)

特表平6-501960
抗ウイルス活性及び抗炎症活性を賦与された炭酸のジエステル
公報種別：公表公報出願番号：特願平7-522122 出願人：イタルファルマコエッセ.ピ.ア.
テクネチウム-およびレニウムキレート、それを含有する診断剤、それを含有する腫瘍治療のための医薬品およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-199039 出願人：インステイトウートフユアデイアグノステイツクフオルシユングゲゼルシヤフトミツトベシユレンクテルハフツング

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