特許
J-GLOBAL ID：200903048150411570
フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-135254
公開番号（公開出願番号）：特開平10-326015
出願日： 1997年05月26日
公開日（公表日）： 1998年12月08日
要約：
【要約】【課題】 残膜率、塗布性、耐熱性などの諸性能に優れ、特に感度、解像度、プロファイルおよびタイム・ディレイ耐性に優れた化学増幅型のポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 アルカリに対して不溶性または難溶性の状態から、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)および、エーテル結合を有する3級アミン化合物(C)の各成分を含有するポジ型フォトレジスト組成物。【効果】 環境による影響を受けにくく、また感度、解像度およびプロファイルに優れ、高精度で微細なフォトレジストパターンを与える。
請求項（抜粋）：
アルカリに対して不溶性または難溶性の状態から、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)および、エーテル結合を有する3級アミン化合物(C)を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503 A
