特許
J-GLOBAL ID：200903026575075643
堆積膜の形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-053364
公開番号（公開出願番号）：特開2001-323376
出願日： 2001年02月28日
公開日（公表日）： 2001年11月22日
要約：
【要約】【課題】堆積膜形成時において、原料ガスの澱み領域をなくすと共に、副生成物の発生を防ぎ、均一な膜質および膜厚の堆積膜を形成することが可能な堆積膜の形成装置を提供する。【解決手段】放電容器内を排気しながらその内部に原料ガスを導入し、前記放電容器内にプラズマを生起させることによって前記原料ガスを分解し、前記基体の表面に堆積膜を形成する平行平板型プラズマCVD装置において、前記原料ガス排気手段の排気口が、前記平行平板型電極の横幅より大きい横幅の開口を有する構成とする。
請求項（抜粋）：
真空容器内に、平行平板型電極と原料ガス供給手段及び原料ガス排気手段が設けられた放電容器を有し、該放電容器はその壁面の少なくとも一面が堆積膜を形成するための基体によって構成され、該放電容器内を排気しながらその内部に原料ガスを導入し、前記放電容器内にプラズマを生起させることによって前記原料ガスを分解し、前記基体の表面に堆積膜を形成する堆積膜の形成装置において、前記原料ガス排気手段の排気口が、前記平行平板型電極の横幅より大きい横幅の開口を有することを特徴とする堆積膜形成装置。
IPC (3件)：
C23C 16/455
, H01L 21/205
, H01L 31/04
C23C 16/455
, H01L 21/205
, H01L 31/04 T
