特許
J-GLOBAL ID：200903026675244426
エンドα-ガラクトサミニダーゼ高感度基質、その製造方法及び利用方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北川 治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-158437
公開番号（公開出願番号）：特開2006-335644
出願日： 2005年05月31日
公開日（公表日）： 2006年12月14日
要約：
【課題】 エンドα- ガラクトサミニダーゼ高感度基質と、その実施容易で高収率な合成方法とを提供する。【解決手段】 単糖のガラクトサミンであり、又はガラクトサミンが還元末端を構成している二糖体以上のオリゴ糖である糖構造体の前記ガラクトサミンの4位と6位の水酸基にわたってシリルアセタール構造の保護基を環状に形成する反応用原料準備ステップと、上記の反応用原料準備ステップで得られた反応用原料に対してアゾジカルボン酸ジエチル及びトリフェニルホスフィンを反応させた後、トルエン溶媒中、還流下で攪拌と言う条件下で求核剤としての4-メチルウンベリフェロンを反応させる光延反応ステップとを含む、エンドα- ガラクトサミニダーゼ高感度基質の合成方法。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
単糖のガラクトサミンであり、又はガラクトサミンが還元末端を構成している二糖体以上のオリゴ糖である糖構造体において、その糖構造体の前記ガラクトサミンに対してα-(1-7)グリコシド結合により4-メチルウンベリフェロンが結合していることを特徴とするエンドα- ガラクトサミニダーゼ高感度基質。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (17件)：
4B050CC10
, 4B050DD01
, 4B050LL03
, 4B050LL10
, 4B063QA05
, 4B063QA18
, 4B063QA20
, 4B063QQ35
, 4B063QR43
, 4B063QR57
, 4B063QS26
, 4B063QX01
, 4C057AA17
, 4C057BB03
, 4C057CC04
, 4C057DD01
, 4C057KK09
