特許

J-GLOBAL ID：200903026748926377

レーザービーム切り替え装置及びレーザー加工装置

発明者： エルンスト アフォルター ,  ジーン-ノエル フェール ,  ウルバン ゲオルグ シュネル
出願人/特許権者： 日立ビアメカニクス株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人 日東国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-043824
公開番号（公開出願番号）：特開2006-350292
出願日： 2006年02月21日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：

【課題】レーザービーム切り替え装置及びレーザー加工装置。【解決手段】本発明は、入力レーザービーム(110)を選択的に第1の出力レーザービーム(140a)及び/又は第2の出力レーザービーム(140b)に導くための装置を提供する。この装置は、入力レーザービーム(110)を第1の部分ビーム(120a)と第2の部分ビーム(120b)に空間的に分離するように設置されたビーム分離素子(115)と、2つの部分ビーム(120a、120b)を空間的かつ可干渉的に重ねて2つの部分ビーム(120a、120b)を第1の出力レーザービーム(140a)及び/又は第2の出力レーザービーム(140b)に変換するように設置及び配置されたビーム重合素子(135)と、を具備する。また、本発明は、さらにレーザー光源(105)と、上記装置(100)と、第1の偏向装置(180a)と、第2の偏向装置(180b)とを有する、加工対象物を加工するためのレーザー加工装置を提供する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

入力レーザービーム(110)を第1の出力レーザービーム(140a)及び/又は第2の出力レーザービーム(140b)に選択的に導くための装置であって、 前記入力レーザービーム(110)を第1の部分ビーム(120a)と第2の部分ビーム(120b)に空間的に分離するように設置されたビーム分離素子(115)と、 前記2つの部分ビーム(120a、120b)を空間的に重ね、前記2つの部分ビーム(120a、120b)を前記第1の出力レーザービーム(140a)及び/又は前記第2の出力レーザービーム(140b)に変換するよう設置及び配置されたビーム重合素子(135)と、を有し、 前記2つの出力レーザービーム(140a、140b)の強度が、前記ビーム重合素子(135)における前記2つの部分ビーム(120a、120b)の間の相対的位相シフトに依存し、 さらに、前記第1の部分ビーム(120a)の中に設けられ、前記第1の部分ビーム(120a)の光路長が前記ビーム分離素子(115)と前記ビーム重合素子(135)の間で変化するよう設置された光学作動素子(170)を有することを特徴とするレーザービーム切り替え装置。

IPC (4件)：

G02B 26/02 ,  B23K 26/38 ,  B23K 26/067 ,  B23K 26/08

FI (4件)：

G02B26/02 A ,  B23K26/38 330 ,  B23K26/067 ,  B23K26/08 B

Fターム (8件)：

2H041AA02 ,  2H041AB14 ,  2H041AC04 ,  2H041AC08 ,  4E068AF00 ,  4E068CD04 ,  4E068CE03 ,  4E068DA11

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 日本国公開特許2002-11584号公報
  
• 日本国公開特許2003-53576号公報
  
• 日本国公開特許2003-126982号公報
  
• 光利得等化フィルター
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-050553   出願人：古河電気工業株式会社
• マッハ・ツェンダー型光干渉計およびその作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-058404   出願人：東陶機器株式会社

審査官引用 (2件)

• 光利得等化フィルター
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-050553   出願人：古河電気工業株式会社
• マッハ・ツェンダー型光干渉計およびその作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-058404   出願人：東陶機器株式会社