特許

J-GLOBAL ID：200903026749708969

位相シフトマスク

発明者： 大瀧 雅央 ,  千葉 和明
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
代理人 (1件)： 横川 邦明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-321294
公開番号（公開出願番号）：特開平7-152142
出願日： 1993年11月26日
公開日（公表日）： 1995年06月16日
要約：

【要約】【目的】 光の透過率及びシフター部と非シフター部との間の光の位相差の両方をそれぞれ正確に設定できるハーフトーン型位相シフトマスクを提供する。【構成】 半透明位相シフター2は、投影露光光に対して部分透過性を有すると共にその投影露光光に位相差を付与する。非シフター部分の基板は投影露光光に位相差を付与するために深さdだけ除去されている。その非シフター部分の除去量によって付与される位相差をφ<SB>1</SB> とし、半透明位相シフター2によって付与される位相差をφ<SB>0</SB> とするとき、φ<SB>0</SB> <180 ゚、φ<SB>0</SB> +φ<SB>1</SB> =180 ゚±n×360 ゚(nは整数)に設定する。光透過率は半透明シフター2の成膜によって精度良く制御し、位相差は半透明シフター2の成膜と基板1の掘り下げとによって精度良く制御し、結果として光透過率及び位相差の両方を正確に制御する。

請求項（抜粋）：

基板と、その基板上にパターン状に形成されていて投影露光光に対して部分透過性を有すると共にその投影露光光に透明部分との間に位相差を付与する半透明位相シフターとを有しており、非シフター部分の基板は上記投影露光光に位相差を追加的に付与するために所定深さ除去されており、その非シフター部分の除去量によって付与される位相差をφ<SB>1</SB> とし、上記半透明位相シフターによって付与される位相差をφ<SB>0</SB> とするとき、φ<SB>0</SB> <180 ゚φ<SB>0</SB> +φ<SB>1</SB> =180 ゚±n×360 ゚(nは整数)であることを特徴とする位相シフトマスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 移相マスクおよびマスキング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-241390   出願人：モトローラ・インコーポレイテッド
• 特開平4-136854
  
• 特開平4-359254