特許

J-GLOBAL ID：200903026775112748

膜パターンの形成方法、膜パターン形成装置、導電膜配線、電気光学装置、電子機器、並びに非接触型カード媒体

発明者： 橋本 貴志 ,  古沢 昌宏
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 稲葉 良幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-113586
公開番号（公開出願番号）：特開2003-080694
出願日： 2002年04月16日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
要約：

【要約】【課題】 微細な膜パターンを形成することができ、工程も簡略化された機能性膜パターンの形成方法を提供することを目的とする。また、断線や短絡等の不良が生じにくく、しかも膜厚が厚く電気伝導等の機能発揮に有利なパターンを形成することのできる機能性膜パターンの形成方法を提供する。【解決手段】 導電性微粒子等の機能性成分を含有した液体を基板101上にインクジェットにより吐出して機能性膜パターンを形成する方法であって、前記液体に対する接触角が30[deg]以上60[deg]以下である機能性膜形成面を有する基板上に前記液体をインクジェットにより塗布する工程(S2)と、塗布された前記液体を熱処理によって機能性膜に変換する工程(S3)と、を備える。前記インクジェットにより吐出する工程は、前記液体を前記基板上に付与された際の液体の直径の1%以上10%以下の重なりを生じるように吐出することが望ましい。

請求項（抜粋）：

機能性成分を含有した液体を基板上にインクジェットにより吐出して機能性膜パターンを形成する方法であって、前記液体に対する接触角が30[deg]以上60[deg]以下である膜形成面を有する基板上に前記液体をインクジェットにより塗布する工程と、塗布された前記液体を熱処理によって機能性膜に変換する工程と、を備えた、機能性膜パターンを形成する方法。

IPC (12件)：

B41J 2/01 ,  B05C 5/00 101 ,  B05D 1/26 ,  B05D 3/02 ,  B05D 5/12 ,  G02F 1/13 101 ,  H01J 9/02 ,  H01J 11/02 ,  H01L 21/288 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/336 ,  H01L 29/786

FI (11件)：

B05C 5/00 101 ,  B05D 1/26 Z ,  B05D 3/02 Z ,  B05D 5/12 B ,  G02F 1/13 101 ,  H01J 9/02 F ,  H01J 11/02 B ,  H01L 21/288 Z ,  H01L 21/31 A ,  B41J 3/04 101 Z ,  H01L 29/78 618 A

Fターム (85件)：

2C056FA04 ,  2C056FB01 ,  2H088FA18 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088HA02 ,  2H088HA04 ,  2H088HA08 ,  2H088MA20 ,  4D075AC07 ,  4D075AC09 ,  4D075AC92 ,  4D075AC93 ,  4D075AE16 ,  4D075BB24Y ,  4D075BB26Z ,  4D075BB68X ,  4D075BB91X ,  4D075CA13 ,  4D075CA22 ,  4D075CA36 ,  4D075DA04 ,  4D075DA06 ,  4D075DB01 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DB31 ,  4D075DC19 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075DC27 ,  4D075EA07 ,  4D075EA10 ,  4D075EB16 ,  4D075EB42 ,  4D075EC10 ,  4D075EC60 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB02 ,  4F041BA10 ,  4F041BA13 ,  4F041BA22 ,  4F041BA56 ,  4M104AA01 ,  4M104BB01 ,  4M104BB04 ,  4M104BB05 ,  4M104BB07 ,  4M104BB08 ,  4M104BB09 ,  4M104BB36 ,  4M104CC01 ,  4M104DD28 ,  4M104DD51 ,  4M104DD80 ,  4M104DD81 ,  4M104HH14 ,  4M104HH16 ,  5C027AA01 ,  5C027AA02 ,  5C040GC19 ,  5C040JA13 ,  5F045AB03 ,  5F045AB04 ,  5F045AC16 ,  5F045AC17 ,  5F045AF07 ,  5F045AF12 ,  5F045BB08 ,  5F045CA15 ,  5F045EB19 ,  5F045HA16 ,  5F110AA16 ,  5F110AA26 ,  5F110BB01 ,  5F110CC01 ,  5F110CC02 ,  5F110DD12 ,  5F110GG02 ,  5F110GG13 ,  5F110GG42 ,  5F110PP02 ,  5F110PP03 ,  5F110PP13

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 電気回路、その製造方法および電気回路製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-078149   出願人：セイコーエプソン株式会社
• プリント基板、電子放出素子、電子源、および画像形成装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-090621   出願人：キヤノン株式会社
• 膜パターンの形成方法および形成装置、ならびにこれにより得られる膜構造体、電気光学装置、電子機器、および非接触型カード媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-331371   出願人：セイコーエプソン株式会社