特許
J-GLOBAL ID：200903052028522172

膜パターンの形成方法および形成装置、ならびにこれにより得られる膜構造体、電気光学装置、電子機器、および非接触型カード媒体

発明者：
古沢 昌宏

古沢 昌宏 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 渡邊 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-331371
公開番号（公開出願番号）：特開2003-133692
出願日： 2001年10月29日
公開日（公表日）： 2003年05月09日
要約：
【要約】【課題】微細な膜パターンを簡単な工程によって低コストで形成でき、しかも厚膜の膜パターンを効率良く形成できるようにする。【解決手段】親液性が略一様な基板Wの表面上に、インクジェット装置の吐出手段(インクジェットヘッド群1のインクジェットヘッド)から、膜形成成分および溶剤を含有する液体を吐出して膜パターンを形成する方法であって、ホットプレートを備えた載置台4上に基板Wを固定し、基板Wの表面温度を前記溶剤の沸点以下でかつ吐出手段内の液体の温度より高い温度に制御した状態で、吐出手段と基板Wとの相対位置を移動させつつ、吐出手段から液体を吐出して、液体を基板Wの表面上に塗布する塗布工程を有することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
親液性が略一様な基板表面上に、吐出手段から、膜形成成分および溶剤を含有する液体を吐出して膜パターンを形成する方法であって、前記基板表面の温度を、前記溶剤の沸点以下、かつ前記吐出手段内の前記液体の温度より高い温度に制御し、前記吐出手段と前記基板とを相対的に移動させつつ前記吐出手段から前記液体を吐出して、前記液体を前記基板表面上に塗布する塗布工程を有することを特徴とする膜パターンの形成方法。
IPC (7件)：
H05K 3/10 ,  B05C 5/00 101 ,  B05D 1/26 ,  B05D 3/02 ,  H01L 21/288 ,  H01L 21/3205 ,  H05K 1/16
FI (7件)：
H05K 3/10 D ,  B05C 5/00 101 ,  B05D 1/26 ,  B05D 3/02 B ,  H01L 21/288 Z ,  H05K 1/16 B ,  H01L 21/88 B
Fターム (95件)：
4D075AE03 ,  4D075BB18Y ,  4D075BB23Y ,  4D075BB26Z ,  4D075BB36Y ,  4D075BB42Z ,  4D075BB46Z ,  4D075BB48Z ,  4D075BB49X ,  4D075BB68X ,  4D075BB91X ,  4D075BB93Y ,  4D075BB95Y ,  4D075CA13 ,  4D075CA22 ,  4D075CA47 ,  4D075CB38 ,  4D075DA04 ,  4D075DA06 ,  4D075DB01 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DB48 ,  4D075DC18 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075DC27 ,  4D075EA12 ,  4D075EB43 ,  4D075EB47 ,  4D075EC10 ,  4D075EC60 ,  4E351AA06 ,  4E351AA13 ,  4E351BB09 ,  4E351CC08 ,  4E351CC22 ,  4E351CC27 ,  4E351DD04 ,  4E351DD05 ,  4E351DD06 ,  4E351DD19 ,  4E351DD20 ,  4E351EE11 ,  4E351EE24 ,  4E351EE25 ,  4E351EE27 ,  4E351GG20 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB02 ,  4F041BA05 ,  4F041BA13 ,  4F041BA22 ,  4F041BA48 ,  4M104BB01 ,  4M104BB05 ,  4M104BB07 ,  4M104BB08 ,  4M104BB09 ,  4M104BB36 ,  4M104DD51 ,  4M104DD77 ,  4M104DD78 ,  5E343AA22 ,  5E343AA26 ,  5E343BB23 ,  5E343BB24 ,  5E343BB25 ,  5E343BB44 ,  5E343BB48 ,  5E343DD13 ,  5E343EE32 ,  5E343ER32 ,  5E343ER39 ,  5E343ER43 ,  5E343ER44 ,  5E343GG08 ,  5F033GG03 ,  5F033GG04 ,  5F033HH00 ,  5F033HH04 ,  5F033HH05 ,  5F033HH07 ,  5F033HH11 ,  5F033HH13 ,  5F033HH14 ,  5F033HH40 ,  5F033PP26 ,  5F033PP33 ,  5F033QQ53 ,  5F033QQ73 ,  5F033QQ91 ,  5F033XX33 ,  5F033XX34
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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