特許

J-GLOBAL ID：200903026789699440

高精度パターンの外観検査装置及びその検査方法

発明者： 村上 進午
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 畑 泰之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-173055
公開番号（公開出願番号）：特開2001-004340
出願日： 1999年06月18日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】 LSI製造用のレチクル、或いは、LSI自身のパターンの外観検査における検査時間の短縮を可能にする高精度パターンの外観検査装置を提供する。【解決手段】 レーザ光源111と、このレーザ光源111から出射したレーザビーム119を走査する走査手段121、126と、前記レーザビーム119を複数のレーザビーム138、139に分岐させるレーザビームの分割光学系130と、分岐したレーザビームを試料182に照射する照射手段と、前記試料182面より反射する光線又は試料182面を透過する光線の少なくとも一方を検出する検出手段150又は160と、前記検出手段150又は160で検出された前記試料182面の画像から前記試料面の欠陥を検出する画像処理手段191とからなる高精度パターンの外観検査装置において、前記レーザ光源111は、複数の波長を同時に発振可能にしたレーザ光源であることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

レーザ光源と、このレーザ光源から出射したレーザビームを走査する走査手段と、前記レーザビームを複数のレーザビームに分岐させるレーザビームの分割光学系と、分岐したレーザビームを試料に照射する照射手段と、前記試料面より反射する光線又は試料面を透過する光線の少なくとも一方を検出する検出手段と、前記検出手段で検出された前記試料面の画像から前記試料面の欠陥を検出する画像処理手段とからなる高精度パターンの外観検査装置において、前記レーザ光源は、複数の波長を同時に発振可能にしたレーザ光源であることを特徴とする高精度パターンの外観検査装置。

IPC (2件)：

G01B 11/24 ,  G01B 11/30

FI (2件)：

G01B 11/24 F ,  G01B 11/30 A

Fターム (32件)：

2F065AA49 ,  2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065CC17 ,  2F065CC25 ,  2F065DD06 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF41 ,  2F065GG05 ,  2F065GG23 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ22 ,  2F065LL08 ,  2F065LL09 ,  2F065LL13 ,  2F065LL20 ,  2F065LL21 ,  2F065LL36 ,  2F065LL57 ,  2F065LL62 ,  2F065MM16 ,  2F065NN16 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ01 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ51 ,  2F065SS02 ,  2F065SS13

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 計測装置及び計測方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-187774   出願人：ソニー株式会社