特許
J-GLOBAL ID:200903026792203129

表面凹凸形成方法、それにより得られる光学フィルム及び拡散反射板

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-370618
公開番号(公開出願番号):特開2004-198987
出願日: 2002年12月20日
公開日(公表日): 2004年07月15日
要約:
【課題】簡便にかつ安価に基板露出面の形成と同時に樹脂表面凹凸形状を形成できる方法および、それにより得られる光学フィルム、拡散反射板及び表面凹凸フィルムを提供する。【解決手段】少なくとも一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマーを含有する感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を形成する工程、前記感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を除去する箇所以外に活性エネルギー線を照射する工程、前記活性エネルギー線を照射しなかった前記感エネルギー性樹脂組成物層をエッチング(現像)し、前加熱する工程を含む表面凹凸形成工程群(A)、パターン形成されたマスクを介して活性エネルギー線を少なくとも一回以上照射する工程、後加熱する工程を含む工程群(B)からなり、工程群(A)、(B)を順次行うマスクパターンに従った表面凹凸形成方法。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
少なくとも一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマーを含有する感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を形成する工程、前記感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を除去する箇所以外に活性エネルギー線を照射する工程、前記活性エネルギー線を照射しなかった前記感エネルギー性樹脂組成物層をエッチングし、前加熱する工程を含む表面凹凸形成工程群(A)、パターン形成されたマスクを介して活性エネルギー線を少なくとも一回以上照射する工程、後加熱する工程を含む工程群(B)からなり、工程群(A)、(B)を順次行うことを特徴とするマスクパターンに従った表面凹凸形成方法。
IPC (5件):
G02B5/02 ,  G02B5/08 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  G09F9/30
FI (6件):
G02B5/02 C ,  G02B5/08 B ,  G03F7/20 501 ,  G03F7/40 511 ,  G03F7/40 521 ,  G09F9/30 349D
Fターム (42件):
2H042BA03 ,  2H042BA14 ,  2H042BA15 ,  2H042BA20 ,  2H042DA02 ,  2H042DA04 ,  2H042DA05 ,  2H042DA08 ,  2H042DA22 ,  2H042DB08 ,  2H042DC02 ,  2H042DD01 ,  2H042DE00 ,  2H091FA16Z ,  2H091FB04 ,  2H091FC10 ,  2H091FC23 ,  2H091GA13 ,  2H091LA12 ,  2H091LA18 ,  2H096AA28 ,  2H096BA05 ,  2H096BA06 ,  2H096DA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096HA03 ,  2H096HA05 ,  2H097CA12 ,  2H097FA02 ,  2H097GA45 ,  2H097HB03 ,  2H097LA17 ,  5C094AA43 ,  5C094AA44 ,  5C094BA03 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094DA13 ,  5C094ED11 ,  5C094FB01 ,  5C094GB01
引用特許:
審査官引用 (4件)
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