特許
J-GLOBAL ID：200903026814973543

合成ハイドロタルサイトの合成と使用

発明者：
フジイ、マサキ

フジイ、マサキ について

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キム、セヒュン

キム、セヒュン について

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タウンセンド、エドウィン、ビー.、4世

タウンセンド、エドウィン、ビー.、4世 について

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ギャラハー、ジョージ、アール.、ジュニア.

ギャラハー、ジョージ、アール.、ジュニア. について

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ブリマ、トーマス、エス.

ブリマ、トーマス、エス. について


出願人/特許権者：
スノコ, インコーポレイテッド(アール アンド エム)

スノコ, インコーポレイテッド(アール アンド エム) について


代理人 (3件)： 矢口 太郎 ,  大森 純一 ,  山口 康明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-560020
公開番号（公開出願番号）：特表2005-515230
出願日： 2003年01月08日
公開日（公表日）： 2005年05月26日
要約：
【課題】 【解決手段】 [M2+1-xM3+x(OH)21x+[An x/n 11H20]xを一般的化学式とし、前記化学式においてM2+が二価カチオンであり、M3+が三価カチオンであり、A°-がC16〜C18酸の直鎖カルボン酸塩と、芳香族酸のカルボン酸塩と、アクリル酸のカルボン酸塩と、メタクリル酸の不飽和カルボン酸塩と、ビニル酢酸の不飽和カルボン酸塩と、C2および窒素、燐、硫黄、ハロゲンのようなヘテロ原子を含むより高級な有機酸のカルボン酸塩とから選択した有機アニオンである合成ハイドロタルサイトを、合成方法および使用方法とともに開示する。
請求項（抜粋）：
以下を一般的化学式とする合成ハイドロタルサイトであって、
IPC (7件)：
C07C229/08 ,  C08K3/26 ,  C08L23/02 ,  C08L23/06 ,  C08L25/04 ,  C08L27/06 ,  C08L101/00
FI (7件)：
C07C229/08 ,  C08K3/26 ,  C08L23/02 ,  C08L23/06 ,  C08L25/04 ,  C08L27/06 ,  C08L101/00
Fターム (16件)：
4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB40 ,  4H006BS10 ,  4H006BU32 ,  4J002BB031 ,  4J002BB041 ,  4J002BB121 ,  4J002BB161 ,  4J002BB211 ,  4J002BC031 ,  4J002BC041 ,  4J002BD031 ,  4J002BD041 ,  4J002DE286 ,  4J002FD016
引用特許：
審査官引用 (12件)
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