特許
J-GLOBAL ID:200903026825460092
基板取付用ステージ
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
片山 大
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-068535
公開番号(公開出願番号):特開平8-215971
出願日: 1995年02月19日
公開日(公表日): 1996年08月27日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 イオンビームエッチング装置等の基板取付用ステージにおいて、基板取付部の冷却効果を高める。【構成】ケース5が回転すると、基板取付部6は遊星運動する。ケース5には、取付軸39を回転可能に取り囲む給水ボディ51が設けられており、基板取付部6と取付軸39の内部に形成した流路43は、給水ボディ51の流入路53、流出路54に連通している。ケース5の中央には、上部ユニオン33が設けられている。このユニオン33は、フレーム4に固定した下部ユニオン22に回転可能に接続されている。上部ユニオン33は、配管55、56により給水ボディ51に接続されている。下部ユニオン22に供給された冷却水は、上部ユニオン33、給水ボディ51を介して基板取付部6内に流入し、基板取付部6を直接冷却する。
請求項(抜粋):
チャンバ(1)内に形成したフレーム(4)上にチャンバ外の駆動源により公転するようケース(5)を設け、該ケース(5)の上部に基板を支持する基板取付部(6)を回転可能に設け、上記ケース(5)が公転した際、上記基板取付部(6)が遊星運動するよう上記基板取付部(6)の取付軸(39)の下端に遊星歯車(40)を設けると共に、上記ケース(5)中央部の上記フレーム(4)に該遊星歯車(40)に係合する太陽歯車(21)を固定し、該ケース(5)のほぼ中央位置に相当するフレーム(4)にチャンバ外に通じる給水管(23)と排水管(24)を設け、フレーム(4)にはまた該給水管(23)と排水管(24)にそれぞれ連通する流入路(25)と流出路(26)を有する下部ユニオン(22)を固設し、該下部ユニオン(22)の該流出路(25)及び流出路(26)にそれぞれ連通する流入路(35)及び流出路(34)を有しかつ該下部ユニオン(22)に回転可能に接続する上部ユニオン(33)を上記ケース(5)のトップベース(32)の中央部に取付け、一方上記取付軸(39)を通して上記基板取付部(6)内を流れる流路(43)を形成し、該取付軸(39)の該流路(43)に連通する流入路(53)及び流出路(54)を有しかつ該取付軸(39)に回転可能に係合する給水ボディ(51)を上記ケース(5)に固定して取付け、該給水ボディ(51)の該流入路(53)及び流出路(54)を上記上部ユニオン(33)の上記流入路(35)及び流出路(34)に配管で連通し、上記チャンバー(1)の外部から上記基板取付部(6)に冷却水を直接循環させるようにしたことを特徴とする基板取付用ステージ。
IPC (5件):
B23Q 7/02
, B23Q 11/12
, H01L 21/203
, H01L 21/3065
, H01L 21/68
FI (5件):
B23Q 7/02 B
, B23Q 11/12 C
, H01L 21/203 S
, H01L 21/68 N
, H01L 21/302 B
引用特許:
審査官引用 (1件)
-
半導体ウエハの研磨制御装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-101325
出願人:新日本製鐵株式会社, ニッテツ電子株式会社
前のページに戻る