特許
J-GLOBAL ID:200903026834955118
多孔質体形成材料及び多孔質体の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-330453
公開番号(公開出願番号):特開2005-097366
出願日: 2003年09月22日
公開日(公表日): 2005年04月14日
要約:
【課題】 超臨界の二酸化炭素により直径が0.1ミクロン(100nm)以下の空孔を形成するための材料を提供する。【解決手段】 超臨界の二酸化炭素により100nm以下の空孔を形成するための多孔質体形成材料であって、超臨界二酸化炭素に溶解性を有する少なくとも1つのブロック成分Aと、超臨界二酸化炭素に溶解性を有しない少なくとも1つのブロック成分Bを有するブロック共重合体からなることを特徴とする多孔質体形成材料。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
超臨界の二酸化炭素により100nm以下の空孔を形成するための多孔質体形成材料であって、超臨界二酸化炭素に溶解性を有する少なくとも1つのブロック成分Aと、超臨界二酸化炭素に溶解性を有しない少なくとも1つのブロック成分Bを有するブロック共重合体からなることを特徴とする多孔質体形成材料。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (19件):
4F074AA16B
, 4F074AA32B
, 4F074AA38B
, 4F074AA90B
, 4F074BA32
, 4F074CB32
, 4F074CB43
, 4F074CC05X
, 4F074CC10X
, 4F074CC23X
, 4F074CC29Y
, 4F074CC32X
, 4F074CC32Y
, 4F074CC34X
, 4F074CC34Y
, 4F074DA03
, 4F074DA14
, 4F074DA47
, 4F074DA59
引用特許:
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