特許
J-GLOBAL ID：200903026868150844

荷電粒子ビーム出射方法

発明者：
平本 和夫

平本 和夫 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-014940
公開番号（公開出願番号）：特開2005-129548
出願日： 2005年01月24日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：
【課題】 簡単な制御で荷電粒子ビームを出射できる荷電粒子ビーム出射方法を提供することにある。【解決手段】 シンクロトロン1内を周回する荷電粒子ビームに高周波印加装置11により高周波電磁場を印加することにより、シンクロトロン1から荷電粒子ビームを出射する場合に、シンクロトロン1から出射する荷電粒子ビームのエネルギーに基づいて、高周波印加装置11が発生する高周波電磁場の強度を制御する。荷電粒子ビームのエネルギーに基づいて高周波電場の強度を設定することにより、ビームの出射量を調整し、荷電粒子ビームのエネルギーによらずビームの出射量を一定に保つことができる。よって、シンクロトロンの運転サイクルにおけるビームを出射する期間の長さをビームのエネルギーによらず一定にすることができ、簡単な制御で荷電粒子ビームを出射することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
加速器内を周回する荷電粒子ビームに高周波電磁場を印加することにより、加速器から荷電粒子ビームを出射する荷電粒子ビーム出射方法において、 加速器から出射する荷電粒子ビームのエネルギーに基づいて、前記高周波電磁場の強度を設定することを特徴とする荷電粒子ビーム出射方法。
IPC (3件)：
H05H13/04 ,  A61N5/10 ,  G21K5/04
FI (4件)：
H05H13/04 G ,  H05H13/04 N ,  A61N5/10 H ,  G21K5/04 D
Fターム (8件)：
2G085AA13 ,  2G085BA13 ,  2G085CA05 ,  2G085CA06 ,  2G085CA24 ,  2G085EA07 ,  4C082AA01 ,  4C082AC05
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (7件)
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