特許
J-GLOBAL ID：200903026876916961
多数のアノードを有する二重円筒ターゲットのマグネトロン
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 稔 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-223494
公開番号（公開出願番号）：特開平8-170172
出願日： 1995年08月31日
公開日（公表日）： 1996年07月02日
要約：
【要約】【課題】 ターゲットを通り越して移動するときに基板に均一な率で付着することのできる二重ターゲットマグネトロンを提供する。【解決手段】 2つの隣接する回転円筒状ターゲットが特定形態の真空スパッタリングシステムに使用されて、基板上に材料の膜を付着する。細長いアノードがターゲットの両側に設けられると共にターゲット間にも設けられ、基板にわたる付着率が均一にされる。
請求項（抜粋）：
基板上に膜を付着するために材料をスパッタリングする少なくとも第1及び第2のターゲットを有するマグネトロンにおいて、上記第1及び第2ターゲットの各々は、軸に対して対称的な形状とされ、上記ターゲットは、それらの上記軸が互いに平行に向けられると共に、上記軸に直交する方向に上記ターゲット間にスペースがある状態で保持され、改良されたアノード構成体が、第1及び第2の細長いアノードであって、それらの長さが上記軸に平行に位置され、そして上記スペースから離れた方のターゲットの側に沿って上記ターゲットから離間された第1及び第2のアノードと、上記軸に平行に上記第1及び第2ターゲット間のスペースに配置された少なくとも第3の細長いアノードを備えたことを特徴とするマグネトロン。
IPC (4件)：
C23C 14/35
, C23C 14/34
, C23C 14/44
, C23C 14/56
