特許
J-GLOBAL ID：200903026878934860
バイナリーオプティクス及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-170375
公開番号（公開出願番号）：特開平8-015510
出願日： 1994年06月30日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：
【要約】【目的】 実用性の高い高精度のBOEおよびこれを安定して製造する方法を提供すること。【構成】 光透過性の基板上に、波長λの光束に対する屈折率nの透明層とエッチングストッパ層との順序で積層された階層構造を有する回折パターンを断面階段状に形成したバイナリーオプティクスおよび製造方法。
請求項（抜粋）：
光透過性の基板上に、断面が階段状の回折パターンが形成されたバイナリーオプティクスにおいて、前記回折パターンが、透明層とエッチングストッパ層との順序で積層された階層構造を有していることを特徴とするバイナリーオプティクス。
引用特許：
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