特許

J-GLOBAL ID：200903026887794906

樹脂、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物、該樹脂を含有する保護膜形成組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該保護膜形成組成物を用いたターン形成方法

発明者： 神田 博美
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-157226
公開番号（公開出願番号）：特開2007-326903
出願日： 2006年06月06日
公開日（公表日）： 2007年12月20日
要約：

【課題】現像欠陥が改善され、液浸露光時に於いて、水に対する追随性、およびラインエッジラフネスが良好なポジ型レジスト組成物に好適に用いることができる樹脂、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物、該樹脂を含有する保護膜形成組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該保護膜形成組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】フッ素原子及び珪素原子の内の少なくともいずれか一方と、-CONHSO2-基とを有する樹脂、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物、該樹脂を含有する保護膜形成組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該保護膜形成組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

フッ素原子及び珪素原子の内の少なくともいずれか一方と、-CONHSO2-基とを有することを特徴とする樹脂。

IPC (4件)：

C08F 20/54 ,  G03F 7/11 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

C08F20/54 ,  G03F7/11 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (47件)：

2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BF03 ,  2H025BF05 ,  2H025BG00 ,  2H025CB15 ,  2H025CB41 ,  2H025DA02 ,  2H025DA03 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  4J100AE06Q ,  4J100AJ02R ,  4J100AL03R ,  4J100AL04R ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AM21P ,  4J100AM21Q ,  4J100AP16Q ,  4J100AP16R ,  4J100BA11P ,  4J100BA11R ,  4J100BA58P ,  4J100BA58Q ,  4J100BA72P ,  4J100BA72Q ,  4J100BA72R ,  4J100BA80P ,  4J100BA80Q ,  4J100BA81Q ,  4J100BB07P ,  4J100BB07Q ,  4J100BB18Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04R ,  4J100BC08P ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開昭57-153433号公報
  
• パターン形成方法及びその露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-008136   出願人：株式会社日立製作所
• 液浸型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン
• 国際公開WO2004-068242号パンフレット
  

審査官引用 (1件)

• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-010481   出願人：富士写真フイルム株式会社