特許
J-GLOBAL ID：200903026887829602

水処理装置

発明者：
稲本 吉宏

稲本 吉宏 について

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廣田 達哉

廣田 達哉 について

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藤川 清和

藤川 清和 について

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河村 要藏

河村 要藏 について

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岸 稔

岸 稔 について

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志水 康彦

志水 康彦 について

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近藤 康人

近藤 康人 について

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中西 稔

中西 稔 について


出願人/特許権者：
三洋電機株式会社

三洋電機株式会社 について


代理人 (1件)： 稲岡 耕作 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-357937
公開番号（公開出願番号）：特開2001-170639
出願日： 1999年12月16日
公開日（公表日）： 2001年06月26日
要約：
【要約】【課題】 水槽に貯留された被処理水を簡単かつ効率的に滅菌処理し得る、新規な水処理装置を提供する。【解決手段】 水槽2に接続された、被処理水を流通させる水処理経路10上に、上流側より順に、残留塩素センサS1および導電率センサS2、塩素イオンを含む電解質溶液の供給路31、および電解槽12を配置し、前記電解質溶液の供給により、電解槽12内での塩素イオン濃度を調整する。【効果】 例えば水槽2がプールや浴槽である場合において、被処理水W中の残留塩素濃度に応じて電極組11に通電することにより、営業中においても滅菌処理を行うことができる。さらに、被処理水W中のイオン濃度に応じて電解槽12に電解質溶液を供給することにより、電解槽12内での塩素発生効率を高めることができ、電極組の寿命を増大させることができる。
請求項（抜粋）：
被処理水を貯留する水槽と、当該水槽から導入された被処理水を電気化学反応によって滅菌する電解槽と、前記被処理水を水槽から電解槽に導入し、かつ滅菌処理後に水槽に還流させる水処理経路を備えるとともに、当該水処理経路の電解槽より上流側に、塩素イオンを含む電解質溶液の供給路を配置し、前記電解質溶液の供給により、電解槽内での塩素イオン濃度を調整することを特徴とする水処理装置。
IPC (13件)：
C02F 1/46 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/76 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504
FI (18件)：
C02F 1/46 Z ,  C02F 1/42 B ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 510 D ,  C02F 1/50 531 M ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 D ,  C02F 1/50 560 D ,  C02F 1/50 560 Z ,  C02F 1/50 560 A ,  C02F 1/76 A ,  C02F 9/00 502 A ,  C02F 9/00 502 D ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 502 M ,  C02F 9/00 503 A ,  C02F 9/00 503 F ,  C02F 9/00 504 B
Fターム (38件)：
4D025AA08 ,  4D025AB19 ,  4D025BA08 ,  4D025BB02 ,  4D025BB11 ,  4D025DA06 ,  4D050AA08 ,  4D050AA10 ,  4D050AB06 ,  4D050BB04 ,  4D050BB06 ,  4D050BB07 ,  4D050BC10 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA01 ,  4D050CA08 ,  4D050CA10 ,  4D050CA15 ,  4D061DA05 ,  4D061DA07 ,  4D061DB01 ,  4D061DB02 ,  4D061DB10 ,  4D061EA02 ,  4D061EB20 ,  4D061EB30 ,  4D061EB31 ,  4D061EB37 ,  4D061EB39 ,  4D061ED12 ,  4D061ED13 ,  4D061FA01 ,  4D061FA08 ,  4D061FA10 ,  4D061FA13 ,  4D061GA06
引用特許：
審査官引用 (11件)
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