特許
J-GLOBAL ID：200903026893958163

半導体製造装置のガス供給装置

発明者：
ジァエ ウォン パク

ジァエ ウォン パク について


出願人/特許権者：
エルジー セミコン カンパニー リミテッド

エルジー セミコン カンパニー リミテッド について


代理人 (1件)： 笹島 富二雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-283998
公開番号（公開出願番号）：特開平10-141599
出願日： 1997年10月16日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：
【要約】【課題】 多様な種類の供給ガスを通常1つのガス調整ボックスを用いて各装置に調整して供給し、空間の活用度及び生産性を向上し得る半導体製造装置のガス供給装置を提供しようとするものである。【解決手段】 収納部70に収納された複数の半導体製造用の装置80に、複数種類のガスを供給する半導体製造装置のガス供給装置を、収納部70の外側に配置され、各ガスが種類別に夫々貯蔵されたガス桶20を収納するガスキャビネット10と、ガスライン30を介してガスキャビネット10の各ガス桶20から夫々供給されるガスを、交差しないようにレイアウトされるガス供給管90を介して収納部70の各装置80に選択的に供給するガス調整ボックス50と、を含んで構成した。
請求項（抜粋）：
収納部(70)に収納された複数の半導体製造用の装置(80)に、複数種類のガスを供給する半導体製造装置のガス供給装置であって、前記収納部(70)の外側に配置され、前記各ガスが種類別に夫々貯蔵されたガス桶(20)を収納するガスキャビネット(10)と、ガスライン(30)を介して該ガスキャビネット(10)の各ガス桶(20)から夫々供給されるガスを、ガス供給管(90)を介して前記収納部(70)の各装置(80)に選択的に供給するガス調整ボックス(50)と、を含んで構成されたことを特徴とする半導体製造装置のガス供給装置。
IPC (6件)：
F17D 1/02 ,  B01J 4/00 102 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31
FI (6件)：
F17D 1/02 ,  B01J 4/00 102 ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/203 Z ,  H01L 21/31 E ,  H01L 21/302 B
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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