特許

J-GLOBAL ID：200903026932606520

疎水性沈降シリカの製造法

発明者： ゲリー トーマス バーンズ ,  キン デン ,  ジェイムス リチャード ハン ,  トーマス ジー リバク ,  ティモシィ エイ オケル ,  クリフォード カールトン リーズ
出願人/特許権者： ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション
代理人 (1件)： ウオーレン・ジー・シミオール
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-123383
公開番号（公開出願番号）：特開2000-327321
出願日： 2000年04月25日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：

【要約】【課題】 疎水性沈降シリカの製造法を提供することである。【解決手段】 その方法は、親水性沈降シリカの水性懸濁液を、(1)触媒量の酸及び(2)オルガンシラン化合物と、(3)有機ケイ素化合物と親水性沈降シリカとの反応を促進させるのに十分な量の水-混和性有機溶媒の共存下で接触させて、疎水性沈降シリカを生成させる工程から成る。

請求項（抜粋）：

親水性沈降シリカの水性懸濁液を、(1)触媒量の酸及び(2)式R1aHbSiX4-a-b (1)によって記載されるオルガンシラン、平均単位式R2nSiO(4-n)/2 (2)によって記載されるオルガノシロキサン、又は式(R33Si)2NH (3)(式中の各R1は独立に選択される炭素原子数が1〜12の炭化水素基であり;各R2は、水素、塩素、ヒドロキシ又は炭素原子数が1〜12の炭化水素基から独立に選択される、但し、R2置換基の少なくとも50モル%は炭化水素基である;各R3は独立に選択される炭素原子数が1〜12の炭化水素基であり;各Xはケイ素に結合された独立に選択される加水分解性基であり;a=2又は3;b=0又は1;a+b=1,2又は3;そしてnは2〜3の整数である)によって記載されるオルガノジシラザンから選択される有機ケイ素化合物と、(3)該有機ケイ素化合物と親水性沈降シリカとの反応を促進するのに十分な量の水-混和性有機溶媒の共存下で接触させて、疎水性沈降シリカを生成させる工程から成ることを特徴とする疎水性沈降シリカの製造法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 疎水性ヒュームドシリカの製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-004790   出願人：ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション
• 特開昭64-003006
  
• 特開昭54-011899