特許
J-GLOBAL ID：200903026965492261
露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-227121
公開番号（公開出願番号）：特開平5-067558
出願日： 1991年09月06日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：
【要約】【目的】 パターン像の解像度及び焦点深度を向上させること。【構成】 レチクル11のフーリエ変換面となる照明光学系中の面15またはその共役面、もしくはその近傍の面内を通る照明光束を、照明光学系の光軸AXから偏心した位置に中心を有する少なくとも1つの局所領域に規定する。これにより、シフター遮光型、またはエッジ強調型の位相シフトレチクル11に対して、所定の方向にレチクル11の回路パターン12の微細度に応じた角度だけ照明光束を傾けて入射させる。【効果】 比較的製造が容易なシフター遮光型、またはエッジ強調型の位相シフトレチクルを用いても、空間周波数変調型の位相シフトレチクルと同等の解像度及び焦点深度が得られる。
請求項（抜粋）：
照明光学系からの照明光束によってマスク上の微細パターン群を照明し、該微細パターン群の像を投影光学系を介して感光性基板に投影露光する露光方法において、前記微細パターン群中の各微細パターンは、前記照明光束に対する透過率がほぼ1である透過部と、該透過部を透過する光束に対してほぼ(2n+1)π(但し、nは整数)の位相差を与えるとともに、パターン幅が前記投影光学系の解像限界程度以下である位相シフト透過部とで構成され;前記マスクのフーリエ変換面となる前記照明光学系中の面またはその共役面、もしくはその近傍の面内を通る前記照明光束を、前記照明光学系の光軸から偏心した位置に中心を有する少なくとも1つの局所領域に規定することによって、前記マスクを照射する照明光束を所定の方向に前記微細パターン群の微細度に応じた角度だけ傾けたことを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 311 W
, H01L 21/30 311 L
