特許

J-GLOBAL ID：200903026978215437

製膜装置

発明者： 吉田 光宏 ,  桂 敏明 ,  渡辺 俊哉 ,  ▲高▼木 俊宜 ,  田中 武
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社 ,  学校法人鶴学園
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-261935
公開番号（公開出願番号）：特開2003-073814
出願日： 2001年08月30日
公開日（公表日）： 2003年03月12日
要約：

【要約】【課題】【解決手段】真空容器21と、この真空容器21内に配置されたパルス電極23と、このパルス電極23上に設置された、製膜,イオン注入用のターゲット22と、前記パルス電極23に導入端子24を介して接続されたパルス電源25と、前記真空容器21に接続され、該真空容器21にガスを導入する外部配管26と、前記真空容器21に接続され、該真空容器21内からのガスを排気する真空ポンプ28とを具備することを特徴とする製膜装置。

請求項（抜粋）：

真空容器と、この真空容器内に配置されたパルス電極と、このパルス電極上に設置された、製膜,イオン注入用のターゲットと、前記パルス電極に導入端子を介して接続されたパルス電源、もしくはDC電源とパルス電源を併用した電源と、前記真空容器に接続され、該真空容器にガスを導入するガス導入手段と、前記真空容器に接続され、該真空容器内からのガスを排気するガス排気手段とを具備することを特徴とする製膜装置。

IPC (4件)：

C23C 14/32 ,  C23C 14/34 ,  H05H 1/46 ,  H01L 21/205

FI (4件)：

C23C 14/32 B ,  C23C 14/34 T ,  H05H 1/46 A ,  H01L 21/205

Fターム (20件)：

4K029AA02 ,  4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029AA29 ,  4K029CA00 ,  4K029CA03 ,  4K029CA05 ,  4K029CA09 ,  4K029CA10 ,  4K029DC34 ,  4K029DD01 ,  5F045BB02 ,  5F045BB09 ,  5F045DP04 ,  5F045DP22 ,  5F045EB02 ,  5F045EH04 ,  5F045EH20 ,  5F045EK12 ,  5F045EK17