特許
J-GLOBAL ID:200903027017867653

フォトリフレクタとその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高宗 寛暁
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-107128
公開番号(公開出願番号):特開平11-289105
出願日: 1998年04月03日
公開日(公表日): 1999年10月19日
要約:
【要約】【課題】 非接触で物体の有無を検出するフォトリフレクタは、従来、不要の光を漏らさないために透光性樹脂と遮光性樹脂でインサート成形を繰り返したり、基板に遮光枠を接合したりするものであって、製造に手間が掛かるとともに小型化が妨げられていたが、簡単な構造と製造方法で、製品の性能および信頼性の向上、小型化、コスト低減を達成する。【解決手段】 基板9に発光素子2と受光素子3を実装し、透光性の封止樹脂11を充填して素子を個別に封入し、封止樹脂表面の光の通路以外の部分をNiメッキ等の遮光膜14で被覆した構造である。製造方法は集合基板を用いるもので、集合基板上に多数の発光素子と受光素子を実装し、封止樹脂を充填して各素子を個別に封入し、光の通路を残して封止樹脂表面に無電解Niメッキ等で遮光膜を形成し、この集合体を縦横に切断してフォトリフレクタを多数個取りする。
請求項(抜粋):
基板に発光素子と受光素子を実装し、該両素子を個別に透光性の樹脂で封止し、前記発光側および受光側の封止樹脂は、それぞれ表面の一部に光の通路を残して他の全表面を遮光膜で被覆したことを特徴とするフォトリフレクタ。
引用特許:
審査官引用 (5件)
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